排ガス処理装置および方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川芳樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000245730
Publication number (International publication number)：2002058962
Application date： Aug. 14, 2000
Publication date： Feb. 26, 2002
Summary：

【要約】【課題】再生による炭素質吸着剤の劣化を抑制した排ガス処理装置および方法を提供する。【解決手段】活性炭等の炭素質吸着剤が充填されている吸着室10を有する移動層式の吸着塔1の炭素質吸着剤排出ラインには、ダストを分離する分離機6の下流に切替弁7が設けられ、炭素質吸着剤を吸着塔1に返送手段5を介して直接返送する経路Aと、移送手段2を介して再生器3へと移送する経路Bを選択可能であり、適切なタイミングで炭素質吸着剤の再生処理が行える。

Claim (excerpt)：

有害物質を含む排ガスを処理する排ガス処理装置であって、内部に炭素質吸着剤を収容し、排ガスと接触させて処理する少なくとも一つの吸着室と、前記吸着室に炭素質吸着剤をそれぞれ供給、排出して吸着室内の炭素質吸着剤を移動させる吸着剤供給、排出手段と、を有する移動層式の吸着塔と、前記炭素質吸着剤排出手段に接続され、炭素質吸着剤からダストを分離する分離手段と、前記分離手段を通過した炭素質吸着剤を前記吸着剤供給手段へと供給する返送手段と、を備える排ガス処理装置。

IPC (3)：

B01D 53/70 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/81 ZAB

FI (2)：

B01D 53/34 134 E , B01D 53/34 ZAB A

F-Term (8)：

4D002AA21 , 4D002BA03 , 4D002BA14 , 4D002CA08 , 4D002DA41 , 4D002EA02 , 4D002FA01 , 4D002HA08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

排ガス中のダイオキシン除去方法及び除去装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-237242 Applicant：三井鉱山株式会社
排ガス処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-310738 Applicant：三井鉱山株式会社
乾式脱塵装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-227316 Applicant：住友重機械工業株式会社

Show all

Return to Previous Page