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J-GLOBAL ID：200903011739965710

汚水処理装置

Inventor：
坂本 和男

About 坂本 和男

, 
大屋 雅英

About 大屋 雅英


Applicant, Patent owner：
西原ネオ工業株式会社

About 西原ネオ工業株式会社


Agent (1)： 佐野 惣一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999133970
Publication number (International publication number)：2000317493
Application date： May. 14, 1999
Publication date： Nov. 21, 2000
Summary：
【要約】【課題】汚水処理を阻害することなくリンの除去効率を高めることができる汚水処理装置の提供を目的としている。【解決手段】汚水が流入する流入口5を有する嫌気槽9,11と、嫌気槽9,11で処理された処理水が流出する移流管40,42と、嫌気槽9,11で処理された処理水が移流管40,42を通じて流入する好気槽13と、好気槽13で処理された処理水が流入する沈殿槽15とを備えた汚水処理装置1において、鉄イオンまたはアルミニウムイオンを溶出する電極52A,52Bが移流管40,42内に配置され、電極52A,52Bから溶出する鉄イオンまたはアルミニウムイオンを汚水中のリン酸イオンと反応させることにより汚水中のリンを除去することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
汚水が流入する流入口を有する嫌気槽と、嫌気槽で処理された汚濁液が移流する好気槽と、好気槽で処理された汚濁液が移流する沈殿槽とを備えた汚水処理装置において、鉄イオンまたはアルミニウムイオンを溶出する電極が前記嫌気槽内に配置され、前記電極から溶出する鉄イオンまたはアルミニウムイオンを汚濁液中のリン酸イオンと反応させることにより汚濁液中のリンを除去することを特徴とする汚水処理装置。
IPC (6)：
C02F 3/30 ZAB ,  C02F 1/463 ,  C02F 1/465 ,  C02F 1/52 ,  C02F 1/58 ,  C02F 3/00
FI (5)：
C02F 3/30 ZAB C ,  C02F 1/52 K ,  C02F 1/58 R ,  C02F 3/00 B ,  C02F 1/46 102
F-Term (20)：
4D027AA02 ,  4D027AA12 ,  4D027BA04 ,  4D038AA08 ,  4D038AB43 ,  4D038BB19 ,  4D040BB72 ,  4D040BB82 ,  4D061DA08 ,  4D061DB18 ,  4D061EA06 ,  4D061FA15 ,  4D061GA21 ,  4D062BA04 ,  4D062CA01 ,  4D062CA02 ,  4D062CA03 ,  4D062DA02 ,  4D062DA12 ,  4D062DC02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 汚水処理装置の脱リン装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-277323   Applicant：西原ネオ工業株式会社
  • 汚水処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-090347   Applicant：三洋電機株式会社
  • 汚水処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-078962   Applicant：三洋電機株式会社
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