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J-GLOBAL ID：200903011772252576

気体浄化装置

Inventor：
村田 耕一

About 村田 耕一

, 
岩永 雄二

About 岩永 雄二


Applicant, Patent owner：
株式会社大氣社

About 株式会社大氣社


Agent (1)： 北村 修一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000157727
Publication number (International publication number)：2001334121
Application date： May. 29, 2000
Publication date： Dec. 04, 2001
Summary：
【要約】【課題】 気体浄化装置の浄化性能及び湿度調整性能を向上させる。【解決手段】 冷却手段11により冷却した洗浄水Wを浄化対象気体Aに接触させて浄化対象気体A中の化学成分を除去する気体浄化装置を構成するのに、槽内に貯留した冷却洗浄水Wを槽底の多数の流出孔8から下方に位置する浄化対象気体Aの洗浄用通気経路4へ流出させる洗浄水散布槽6を設け、流出孔8からの洗浄水流出に対して洗浄水散布槽6における冷却洗浄水Wの貯留状態を保つように洗浄水散布槽6に洗浄水Wを供給する給水手段7,9,10を設ける。
Claim (excerpt)：
冷却手段により冷却した洗浄水を浄化対象気体に接触させて浄化対象気体中の化学成分を除去する気体浄化装置であって、槽内に貯留した冷却洗浄水を槽底の多数の流出孔から下方に位置する浄化対象気体の洗浄用通気経路へ流出させる洗浄水散布槽を設け、前記流出孔からの洗浄水流出に対して前記洗浄水散布槽における冷却洗浄水の貯留状態を保つように前記洗浄水散布槽に洗浄水を供給する給水手段を設けてある気体浄化装置。
IPC (5)：
B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/77 ZAB ,  B01D 53/18 ,  B01D 53/81
FI (3)：
B01D 53/18 E ,  B01D 53/34 ZAB E ,  B01D 53/34 A
F-Term (29)：
4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AA13 ,  4D002AA18 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA13 ,  4D002BA16 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002CA13 ,  4D002DA35 ,  4D002GA03 ,  4D002GB04 ,  4D002GB20 ,  4D020AA09 ,  4D020AA10 ,  4D020BA23 ,  4D020CB08 ,  4D020CB27 ,  4D020CC05 ,  4D020CC07 ,  4D020CC09 ,  4D020CC10 ,  4D020CC20 ,  4D020CD01 ,  4D020CD03 ,  4D020DA02 ,  4D020DB20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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