Pat
J-GLOBAL ID:200903011870559442
パターン検査装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
岡本 宜喜
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001271559
Publication number (International publication number):2003086919
Application date: Sep. 07, 2001
Publication date: Mar. 20, 2003
Summary:
【要約】【課題】 プリント基板のパターンとソルダレジスト及びシルク印刷が重ねて印刷されたプリント基板等のパターンを検査すること。【解決手段】 プリント基板1をカメラ3によって読込み、画像メモリ5に記憶する。二値化回路6A〜6Cでは夫々異なった閾値で二値化することによって、シルク印刷、ソルダレジスト、配線パターン夫々の画像を抽出する。そして位置合わせ回路9A〜9Cにより夫々検出したパターンの位置合わせを行う。そして領域メモリ10A〜10Cに保持される検査領域内で欠陥の検出を行う。こうすれば印刷の種類に合わせた精度でパターンの欠陥を検出することができる。
Claim (excerpt):
プリント基板の配線パターン上にソルダレジスト及びシルク印刷が形成されたプリント基板のパターン検査装置であって、検査パターンを撮像する撮像装置と、前記撮像装置によって撮像した画像を夫々異なるレベルの閾値で二値化することによりシルク印刷、ソルダレジスト及び配線パターンを抽出する第1,第2,第3の二値化部と、シルク印刷に対する検査領域を保持する第1の領域メモリと、ソルダレジストに対する検査領域を保持する第2の領域メモリと、配線パターンに対する検査領域を保持する第3の領域メモリと、第1の領域メモリ内で前記第1の二値化部より検出された画素を第1の所定画素数膨張させ、次いで第2の画素数だけ膨張した画像を収縮する第1の膨張収縮部と、第2の領域メモリ内で前記第2の二値化部より検出された画素を第1の所定画素数膨張させ、次いで第2の画素数だけ膨張した画像を収縮する第2の膨張収縮部と、前記第3の領域メモリに示される領域において、前記第3の二値化部より得られる配線パターンの二値化画像に対して所定の特徴抽出パターンを走査し、一致する画像の位置を検出することによって欠陥画素を検出する特徴抽出部と、前記第1,第2の膨張収縮部より得られるシルク印刷パターン,ソルダレジストのパターンの面積を前記第1,第2の領域メモリの検査領域内でクラスタ検査により集計する第1,第2の集計部と、前記特徴抽出部で得られた欠陥画素を前記第3の領域メモリ内の検査領域内で集計する第3の集計部と、前記第1〜第3の集計部の集計結果に基づいてプリント基板のパターンの良否を判別する判別部と、を具備することを特徴とするパターン検査装置。
IPC (4):
H05K 3/00
, G01B 11/30
, G01N 21/956
, G06T 1/00 305
FI (4):
H05K 3/00 Q
, G01B 11/30 A
, G01N 21/956 B
, G06T 1/00 305 A
F-Term (43):
2F065AA49
, 2F065BB02
, 2F065CC01
, 2F065FF04
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065QQ04
, 2F065QQ24
, 2F065QQ31
, 2F065QQ39
, 2F065SS04
, 2G051AA65
, 2G051AB02
, 2G051CA04
, 2G051EA11
, 2G051EA14
, 2G051ED05
, 2G051ED15
, 2G051ED21
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057BA29
, 5B057BA30
, 5B057CA02
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB02
, 5B057CB06
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CC01
, 5B057CE12
, 5B057CE20
, 5B057CH01
, 5B057CH11
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DB05
, 5B057DB09
, 5B057DC01
, 5B057DC32
, 5B057DC36
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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プリント基板の検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-100679
Applicant:アドモンサイエンス株式会社
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パターン検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-373305
Applicant:サンテック株式会社
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