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J-GLOBAL ID：200903094034668710

パターン検査装置

Inventor：
二村 正生

About 二村 正生

, 
高橋 伸治

About 高橋 伸治


Applicant, Patent owner：
サンテック株式会社

About サンテック株式会社


Agent (1)： 岡本 宜喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999373305
Publication number (International publication number)：2001183119
Application date： Dec. 28, 1999
Publication date： Jul. 06, 2001
Summary：
【要約】【課題】 パターン検査装置において検査パターンの位置ずれや基材の収縮等による影響を少なくし、任意の感度を設定できるようにすること。【解決手段】 カメラ3によってICパッケージ1の検査パターンを読込む。読込んだ画像を画像メモリ5に保持して、二値化回路6によって二値化する。あらかじめ検出すべき欠陥を含む特徴抽出パターンを有する特徴抽出演算子を保持しておき、これを走査することによって欠陥画像を検出する。欠陥した検出画像を所定画素数膨張させ、更に縮小させることによって欠陥の連結,孤立欠陥の消去を行う。こうして得られた画像の画素数を判定することによって、欠陥を検出している。
Claim (excerpt)：
検査パターンを撮像する撮像装置と、前記撮像装置によって撮像した画像をパターン部と他の部分とに二値化する二値化部と、前記二値化部より得られる二値化画像に対して所定の特徴抽出パターンを走査し、一致する画像の位置を検出することによって欠陥画素を検出する欠陥検出部と、前記検出された欠陥画素を第1の所定画素数膨張させる膨張部と、第2の画素数だけ前記膨張部で膨張された画像を縮小する縮小部と、縮小された欠陥画像の大きさに基づいてパターン異常を判別する判別部と、を具備することを特徴とするパターン検査装置。
IPC (3)：
G01B 11/24 ,  G01N 21/956 ,  G03B 15/00
FI (4)：
G01N 21/956 B ,  G03B 15/00 T ,  G01B 11/24 K ,  G01B 11/24 F
F-Term (35)：
2F065AA49 ,  2F065AA56 ,  2F065AA58 ,  2F065BB02 ,  2F065CC01 ,  2F065CC25 ,  2F065DD06 ,  2F065DD07 ,  2F065FF42 ,  2F065FF61 ,  2F065HH12 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM22 ,  2F065NN17 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ04 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ36 ,  2F065QQ41 ,  2F065RR05 ,  2G051AA65 ,  2G051AB02 ,  2G051CA04 ,  2G051EA11 ,  2G051EB01 ,  2G051ED09 ,  2G051ED15
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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