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J-GLOBAL ID：200903011913229190

処理ガスの供給方法及びその装置

Inventor：
陣内 新平

About 陣内 新平


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995328282
Publication number (International publication number)：1997143739
Application date： Nov. 22, 1995
Publication date： Jun. 03, 1997
Summary：
【要約】【課題】 多量の高粘度液体を高精度に流量制御しつつ供給することが可能な処理ガスの供給装置を提供する。【解決手段】 常温における粘度が4000cp〜10000cpの高粘度の液体を気化して処理ガスを形成し、この処理ガスを処理装置30に供給する処理ガスの供給装置において、前記液体32を収納する液体収納容器34と、この液体収納容器内に収納された前記液体の粘度を低下させるために前記液体を加熱する加熱手段36と、前記液体収納容器と前記処理装置とを結ぶ供給通路38と、前記粘度の低下された前記液体を前記供給通路に圧送する圧送手段40と、前記供給通路の途中に介設されて圧送された前記液体を気化して処理ガスを形成する気化手段42とを備えるように構成する。これにより、液体の粘度を低下させ、流量制御が可能なように円滑な流れを生ぜしめるようにする。
Claim (excerpt)：
常温における粘度が4000cp〜10000cpの高粘度の液体を気化して処理ガスを形成し、この処理ガスを処理装置に供給する処理ガスの供給方法において、前記液体を加熱することにより粘度を低下させ、粘度の低下した前記液体を気化手段まで圧送して気化することにより処理ガスを形成し、形成された処理ガスを前記処理装置に供給するようにしたことを特徴とする処理ガスの供給方法。
IPC (5)：
C23C 16/44 ,  B01J 4/00 102 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/285 301
FI (5)：
C23C 16/44 C ,  B01J 4/00 102 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/285 301 L
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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