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J-GLOBAL ID:200903011952047091
担持酸化ルテニウム触媒の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999043466
Publication number (International publication number):2000254502
Application date: Feb. 22, 1999
Publication date: Sep. 19, 2000
Summary:
【要約】【課題】 担持酸化ルテニウム触媒の製造方法であって、活性が高く、より少量の触媒でより低い反応温度で目的化合物を製造可能な、担持酸化ルテニウム触媒の製造方法を提供する。【解決手段】 ルテニウム化合物を担体に担持し、塩基性化合物で処理する工程及び還元性化合物で処理する工程を含み、次に酸化する担持酸化ルテニウム触媒の製造方法。
Claim (excerpt):
次の(1)から(5)の中から選ばれる一の担持酸化ルテニウム触媒の製造方法。(1)ルテニウム化合物を担体に担持し、塩基性化合物で処理する工程及び還元性化合物で処理する工程を含み、次に酸化する担持酸化ルテニウム触媒の製造方法。(2)ルテニウム化合物を担体に担持し、還元剤で処理する工程を含み、酸化数1価以上4価未満のルテニウムとした後、次に酸化する担持酸化ルテニウム触媒の製造方法。(3)ルテニウム化合物をルチル結晶系の酸化チタンを含有する酸化チタン担体に担持し、これを還元剤で処理し、次に酸化する担持酸化ルテニウム触媒の製造方法。(4)担体の単位重量当り、OH基量を0.1×10<SP>-4</SP>〜30×10<SP>-4</SP>(mol/g-担体)含有する酸化チタン担体にルテニウム化合物を担持し、これを液相で還元処理する工程を含む工程の次に酸化する担持酸化ルテニウム触媒の製造方法。(5)担体にアルカリを担持し、次にハロゲン化ルテニウム、ルテニウムオキシ塩化物、ルテニウムアセチルアセトネート錯体、ルテニウム有機酸塩及びルテニウムニトロシル錯体からなる群から選ばれる少なくとも一種のルテニウム化合物を担持し、次に還元剤で処理し、更に酸化する、触媒の外表面の80%以上が下記の式(1)を充足し、担体の外表面殻層にのみ酸化ルテニウムを含有してなる担持酸化ルテニウム触媒の製造方法。S/L<0.35 (1)L:触媒の表面の任意の一点(A)において触媒表面に垂直に触媒内部へ下した垂線が、点(A)の反対側で触媒から外部へ出る触媒表面上の点を点(B)とする場合の点(A)と点(B)の距離S:上記の点(A)から上記の垂線上に測定される距離であって、点(A)から酸化ルテニウムの存在がなくなる点(C)までの距離
F-Term (20):
4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA27C
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069BB08C
, 4G069BC70A
, 4G069BC70B
, 4G069BD02C
, 4G069BD12C
, 4G069CB81
, 4G069EC22X
, 4G069EC22Y
, 4G069FA02
, 4G069FA03
, 4G069FB39
, 4G069FB43
, 4G069FB45
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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塩素の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-026493
Applicant:住友化学工業株式会社
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