Pat
J-GLOBAL ID:200903011988891522
炭化水素油の水素化処理触媒及びその製造方法、並びに炭化水素油の水素化処理方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (5):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004178319
Publication number (International publication number):2006000726
Application date: Jun. 16, 2004
Publication date: Jan. 05, 2006
Summary:
【課題】簡便な手段で、かつ苛酷な運転条件を必要とせずに、炭化水素油中の硫黄分を超深度脱硫することができる水素化処理触媒、その製造方法、およびこの触媒を使用して炭化水素留分を高効率で水素化処理する方法を提供する。【解決手段】無機酸化物担体上に触媒基準、酸化物換算で、第6族金属を10〜30質量%、第8族金属を1〜15質量%、リンを1.5〜6質量%、炭素を2〜14質量%含み、比表面積が80〜145m2/g、細孔容積が0.35〜0.6m1/g、平均細孔直径が14nmを超え、18nm以下である炭化水素油水素化処理触媒、特定物性の無機酸化物担体上に、第8族金属化合物、第6族金属化合物、有機酸及びリン酸を含有する溶液により各成分を担持し、200°C以下で乾燥させるこの触媒の製造方法、およびこの触媒を用いた炭化水素油の水素化処理方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
無機酸化物担体上に触媒基準、酸化物換算で、周期律表第6族金属から選ばれた少なくとも1種を10〜30質量%、周期律表第8族金属から選ばれた少なくとも1種を1〜15質量%、リンを1.5〜6質量%、炭素を2〜14質量%含み、比表面積が80〜145m2/g、細孔容積が0.35〜0.6m1/g、平均細孔直径が14nmを超え、18nm以下であることを特徴とする炭化水素油の水素化処理触媒。
IPC (5):
B01J 27/19
, B01J 29/16
, B01J 35/10
, C10G 45/08
, C10G 45/12
FI (5):
B01J27/19 M
, B01J29/16 M
, B01J35/10 301B
, C10G45/08 Z
, C10G45/12 Z
F-Term (74):
4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069AA12
, 4G069BA01B
, 4G069BA07B
, 4G069BB04A
, 4G069BC57A
, 4G069BC59B
, 4G069BC65A
, 4G069BC67B
, 4G069BC69A
, 4G069BD04A
, 4G069BD07A
, 4G069CC02
, 4G069DA06
, 4G069EA02Y
, 4G069EC02X
, 4G069EC03X
, 4G069EC03Y
, 4G069EC06X
, 4G069EC06Y
, 4G069EC07X
, 4G069EC15X
, 4G069EC15Y
, 4G069EC30
, 4G069FA01
, 4G069FA02
, 4G069FA08
, 4G069FB07
, 4G069FB14
, 4G069FB50
, 4G069FB57
, 4G069FB67
, 4G069FC07
, 4G069FC08
, 4G069ZA04B
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169AA12
, 4G169BA01B
, 4G169BA07B
, 4G169BB04A
, 4G169BC57A
, 4G169BC59B
, 4G169BC65A
, 4G169BC67B
, 4G169BC69A
, 4G169BD04A
, 4G169BD07A
, 4G169CC02
, 4G169DA06
, 4G169EA02Y
, 4G169EC02X
, 4G169EC03X
, 4G169EC03Y
, 4G169EC06X
, 4G169EC06Y
, 4G169EC07X
, 4G169EC15X
, 4G169EC15Y
, 4G169EC30
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FA08
, 4G169FB07
, 4G169FB14
, 4G169FB50
, 4G169FB57
, 4G169FB67
, 4G169FC07
, 4G169FC08
, 4G169ZA04B
, 4H029CA00
, 4H029DA00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
-
特開昭61-114737号公報
-
特許第2900771号公報
-
特許第2832033号公報
-
特開平4-244238号公報
-
水素化処理触媒の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-152571
Applicant:株式会社ジャパンエナジー
-
支持体付水素化及び水素処理触媒及びその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-336492
Applicant:エクソン・リサーチ・アンド・エンジニアリング・カンパニー
-
特開平1-228552号公報
-
軽油の水素化処理触媒及びその製造方法並びに軽油の水素化処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-113109
Applicant:コスモ石油株式会社
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Cited by examiner (7)
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