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J-GLOBAL ID：200903012005377238

密閉式撹拌装置

Inventor：
西岡 光利

About 西岡 光利

, 
浅井 幹雄

About 浅井 幹雄


Applicant, Patent owner：
佐竹化学機械工業株式会社

About 佐竹化学機械工業株式会社


Agent (1)： 小山 輝晃
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003033394
Publication number (International publication number)：2004243161
Application date： Feb. 12, 2003
Publication date： Sep. 02, 2004
Summary：
【課題】撹拌液に旋回方向流を発生させることができると共に従来のマグネットの磁力によって駆動する撹拌装置よりも大きな駆動力が得られ、しかも撹拌液やその蒸気が漏洩する恐れのある軸シール部を有しないような、大容量の撹拌装置にも適用可能な密閉式撹拌装置を提供する。【解決手段】中央部が上下動可能なダイアフラム3を撹拌槽2の上面部に該上面部を気密に覆うように設け、該ダイアフラム3の中央部を貫通する桿体4を該ダイアフラム3に固定して垂設し、該桿体4の下端部に撹拌翼5を固定して垂設して、該撹拌翼5を上下動させて前記撹拌槽2内を撹拌するように形成し、又前記撹拌槽2の内面にバッフルプレート2aを設けた。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
上下動可能なダイアフラムを撹拌槽の上面部に該上面部を気密に覆うように設け、該ダイアフラムを貫通する桿体を該ダイアフラムに固定して垂設し、更に該桿体の下端部に撹拌翼を固定して垂設して、該撹拌翼を上下動させて前記撹拌槽内を撹拌するように形成すると共に該撹拌槽の内面にバッフルプレートを設けた密閉式撹拌装置。
IPC (1)：
B01F11/00
FI (1)：
B01F11/00 A
F-Term (1)：
4G036AB04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
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