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J-GLOBAL ID：200903012030855055

濾過膜及び濾過膜の製造方法

Inventor： 槻田 祐二 ,  船本 明士 ,  高塩 稔 ,  北村 正樹 ,  須揶 高信 ,  斎藤 恭一
Applicant, Patent owner： 東陶機器株式会社 ,  日本原子力研究所
Agent (1)： 坂口 嘉彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996242962
Publication number (International publication number)：1998085572
Application date： Sep. 13, 1996
Publication date： Apr. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ポリオレフィン又はオレフィンとハロゲン化オレフィンの共重合体から成る多孔質基材にグリシジルメタクリレートがグラフト重合され、イミノジ酢酸基が固定された濾過膜であって、水溶液中の金属イオンを効率良く除去することができ、且つ十分な引張強度を有する濾過膜を提供する。【解決手段】 ポリオレフィン又はオレフィンとハロゲン化オレフィンの共重合体から成る多孔質基材に、130%以下のグラフト率でグリシジルメタクリレートがグラフト重合され、1.3mmol/g膜以上の濃度でイミノジ酢酸基が固定されている。

Claim (excerpt)：

ポリオレフィン又はオレフィンとハロゲン化オレフィンの共重合体から成る多孔質基材に、130%以下のグラフト率でグリシジルメタクリレートがグラフト重合され、1.3mmol/g膜以上の濃度でイミノジ酢酸基が固定されていることを特徴とする濾過膜。

IPC (11)：

B01D 71/82 500 ,  B01D 67/00 500 ,  B01D 69/08 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/78 ,  C08F 2/46 ,  C08J 9/36 ,  C08L 51/06 ,  G21F 9/06 ,  C08F255/00 ,  C08F259/00

FI (11)：

B01D 71/82 500 ,  B01D 67/00 500 ,  B01D 69/08 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/78 ,  C08F 2/46 ,  C08J 9/36 ,  C08L 51/06 ,  G21F 9/06 ,  C08F255/00 ,  C08F259/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-083585
  
• 新規モジュール
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-210807   Applicant：旭化成工業株式会社
• 脱イオン水製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-334647   Applicant：旭硝子株式会社
• 特開平4-083585