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J-GLOBAL ID:200903012045059670

水素製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西藤 征彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997077458
Publication number (International publication number):1998273301
Application date: Mar. 28, 1997
Publication date: Oct. 13, 1998
Summary:
【要約】【課題】部分酸化法を利用して製品H2 中のCO濃度を極めて低くでき、しかも低コストにH2 を製造できる水素製造装置を提供する。【解決手段】酸素と原料炭化水素とを高温で反応させて主として一酸化炭素と水素とからなる混合ガスを発生させる部分酸化炉3と、この部分酸化炉3で得られた混合ガス中の一酸化炭素を水と反応させて二酸化炭素と水素にシフト転換するCOシフト転換炉4を備え、上記一酸化炭素シフト転換炉4で得られた混合ガスから主として二酸化炭素等の不純物を固体吸着剤によって吸着除去する活性炭吸着筒6およびゼオライト吸着筒7と、上記吸着筒6,7を通過したガスからメタンガスを除去する深冷メタン分離器2と、このメタンガスが除去されたガスに残留する一酸化炭素を水素と反応させてメタンガスと水に変えることにより製品水素ガス中の一酸化炭素の残留濃度を低下させるメタネータ5とを設けた。
Claim (excerpt):
酸素と原料炭化水素とを高温で反応させて主として一酸化炭素と水素とからなる混合ガスを発生させる部分酸化炉と、この部分酸化炉で得られた混合ガス中の一酸化炭素を水と反応させて二酸化炭素と水素にシフト転換する一酸化炭素シフト転換炉を備え、上記一酸化炭素シフト転換炉で得られた混合ガスから主として二酸化炭素等の不純物を固体吸着剤によって吸着除去する吸着手段と、上記吸着手段を通過したガスからメタンガスを除去するメタン除去手段と、このメタンガスが除去されたガスに残留する一酸化炭素を水素と反応させてメタンガスと水に変えることにより製品水素ガス中の一酸化炭素の残留濃度を低下させるメタン化反応器とを設けたことを特徴とする水素製造装置。
IPC (7):
C01B 3/36 ,  B01D 53/04 ,  C01B 3/48 ,  C01B 3/56 ,  C07C 1/04 ,  C07C 9/04 ,  F25J 3/04 102
FI (7):
C01B 3/36 ,  B01D 53/04 B ,  C01B 3/48 ,  C01B 3/56 Z ,  C07C 1/04 ,  C07C 9/04 ,  F25J 3/04 102
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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