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J-GLOBAL ID：200903012096261881

ナノシリンダー・アレイ

Inventor： トミーネン、マーク ,  ショッター、イェルク ,  トルン-アルブレヒト、トーマス ,  ラッセル、トーマス ピー.
Applicant, Patent owner： ユニバーシティー オブ マサチューセッツ
Agent (2)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001569064
Publication number (International publication number)：2004502554
Application date： Mar. 22, 2001
Publication date： Jan. 29, 2004
Summary：

ナノシリンダー・アレイの作製手法を提供する。ナノ細孔、ナノ細線及び他の材料の高度に規則配列したアレイの形成方法について記載する。この方法は、コポリマー膜を配向させ、膜から一成分を除去してナノ細孔を形成し、今度はナノ細孔を材料で充填してアレイを形成することにより行われる。得られたアレイはナノスケール媒体、デバイス及びシステムを形成するために使用される。

Claim (excerpt)：

導電性又は半導体基板を少なくとも部分的に第1成分及び第2成分からなるコポリマーで被覆する工程と、 前記コポリマーの第1成分が前記コポリマーの第2成分内においてナノサイズのシリンダーを形成することを可能とすべく前記コポリマー中の分子を一定時間流動化させる工程と、 前記第2成分内にある前記第1成分の前記ナノサイズのシリンダーを配向させて配向コポリマーを形成する工程と、 前記配向コポリマー中の分子を固定化させる工程と、 前記配向コポリマーから前記第1成分の少なくとも一部を除去して、前記コポリマー中にナノ細孔アレイを形成する工程とからなるナノ細孔の作製方法。

IPC (6)：

B82B3/00 ,  B82B1/00 ,  G11B5/65 ,  H01F10/12 ,  H01L43/08 ,  H01L43/12

FI (6)：

B82B3/00 ,  B82B1/00 ,  G11B5/65 ,  H01F10/12 ,  H01L43/08 Z ,  H01L43/12

F-Term (10)：

5D006BB09 ,  5D006EA02 ,  5E049AA04 ,  5E049AC05 ,  5E049AC08 ,  5E049BA06 ,  5E049BA16 ,  5E049BA30 ,  5E049DB02 ,  5E049EB06

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Nanolithographic templates from diblock copolymer thin films