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J-GLOBAL ID:200903012138910630

有機・無機高分子複合体およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石井 陽一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996280357
Publication number (International publication number):1998101717
Application date: Sep. 30, 1996
Publication date: Apr. 21, 1998
Summary:
【要約】【課題】 高分子光導波路や他の光集積回路用の材料に要求される項目(低光損失であること、精密な屈折率制御が可能なこと、耐熱性および耐湿性に優れること、希望する所定の膜厚に成膜可能であること、材料の合成が簡易であること、材料コストが低いこと)を満足する有機・無機高分子複合体およびその製造方法を提供する。【解決手段】 シロキサン結合を有する無機マトリックス中にポリスチレンが分散された構造とする。この構造は、加水分解性有機基を有する有機ケイ素化合物の加水分解反応溶液中にスチレンモノマーを共存させて、前記スチレンモノマーを重合させることにより得られる。
Claim (excerpt):
シロキサン結合を有する無機マトリックス中にポリスチレンが分散された構造を有する有機・無機高分子複合体。
IPC (6):
C08F 2/44 ,  C08F 12/08 ,  C08L 25/04 ,  C08L 83/04 ,  G02B 6/00 391 ,  G02B 6/12
FI (6):
C08F 2/44 ,  C08F 12/08 ,  C08L 25/04 ,  C08L 83/04 ,  G02B 6/00 391 ,  G02B 6/12 N
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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