Pat

J-GLOBAL ID：200903012390042144

ダイオキシン含有ガスの湿式処理方法とダイオキシン含有ガスの湿式処理装置

Inventor： 水野 征四郎 ,  森本 秀敏 ,  藤沢 均 ,  赤神 元英 ,  川上 博 ,  丸井 英司 ,  小幡 博志 ,  黒山 英伸
Applicant, Patent owner： 日本国土開発株式会社
Agent (1)： 齋藤 義雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998062278
Publication number (International publication number)：1999244661
Application date： Feb. 26, 1998
Publication date： Sep. 14, 1999
Summary：

【要約】【課題】設備上の経済性・操作の簡易化・設備の規模に左右されない汎用性・既存設備への適用可能性など、これらを満足させることのできるダイオキシン含有ガスの湿式処理方法や湿式処理装置を提供する。【解決手段】先行する湿式処理工程のときには燃焼排ガスと噴霧液とを互いに接触させて燃焼排ガス中のダイオキシンを核凝縮素粒化したり親水化したりする。後続する湿式処理工程のときには先行処理後の燃焼排ガスと高速噴射液とを互いに衝突させて燃焼排ガス中のダイオキシンを高速噴射液で捕捉する。

Claim (excerpt)：

ダイオキシンを含んだ燃焼排ガスを処理するための手段として相対的に前後する二つの湿式処理工程を備え、先行する湿式処理工程のときには燃焼排ガスと噴霧液とを互いに接触させて燃焼排ガス中のダイオキシンを核凝縮素粒化したり親水化したりし、後続する湿式処理工程のときには先行処理後の燃焼排ガスと高速噴射液とを互いに衝突させて燃焼排ガス中のダイオキシンを高速噴射液で捕捉することを特徴とするダイオキシン含有ガスの湿式処理方法。

IPC (4)：

B01D 53/70 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/18 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (3)：

B01D 53/34 134 F ,  B01D 53/18 E ,  B01D 53/34 ZAB

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 排ガス処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-201081   Applicant：トピー工業株式会社
• 湿式脱硫装置と方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-328823   Applicant：バブコック日立株式会社