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J-GLOBAL ID:200903012410731332

X線発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994216131
Publication number (International publication number):1996083690
Application date: Sep. 09, 1994
Publication date: Mar. 26, 1996
Summary:
【要約】【目的】 X線源から取り出すX線の強度(取り出し方向へのX線強度)を減少させることなく、飛散粒子阻止用薄膜や清浄光学面などへの不都合な飛散粒子の付着、堆積を低減して、その結果、長時間安定して使用できるX線発生装置を提供すること。【構成】 減圧された真空容器305内の標的部材303に励起エネルギービーム311を照射してプラズマを形成させ、該プラズマからX線314を取り出すX線発生装置において、前記標的部材303及び/又は前記プラズマから放出される飛散粒子の放出量の方向分布を制御する飛散粒子制御部材301を設けたことを特徴とするX線発生装置。
Claim (excerpt):
減圧された真空容器内の標的部材に励起エネルギービームを照射してプラズマを形成させ、該プラズマからX線を取り出すX線発生装置において、前記標的部材及び/又は前記プラズマから放出される飛散粒子の放出量の方向分布を制御する飛散粒子制御部材を設けたことを特徴とするX線発生装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • レーザプラズマX線源
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-092829   Applicant:株式会社ニコン
  • 特開昭63-231850
Cited by examiner (2)
  • レーザプラズマX線源
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-092829   Applicant:株式会社ニコン
  • 特開昭63-231850

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