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J-GLOBAL ID：200903012421101284

イオン発生装置

Inventor： 上村 太介
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (3)： 大島 泰甫 ,  稗苗 秀三 ,  後藤 誠司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004170735
Publication number (International publication number)：2005353335
Application date： Jun. 09, 2004
Publication date： Dec. 22, 2005
Summary：

【課題】ファンなどの送風手段を必要としない自己拡散型のイオン発生装置を提供する。【解決手段】電極基板5上の多数の放電電極に高電圧を印加して放電電極間の沿面放電によりイオンを発生させ、放電電極1〜4に発生する電位分布が一定の進行方向を持つ進行波状に時間的に変化する交番電圧を放電電極1〜4に印加し、発生したイオンを進行波電界により進行波方向に搬送する。さらに、放電電極に対向して配置された対向電極10に正負イオンのうち一方のイオンを吸着保持させることで、例えば、負イオンを優先的に拡散放出させ、リフレッシュ効果が大きくなる。【選択図】 図4

Claim (excerpt)：

電極間に高電圧を印加してイオンを発生させるイオン発生部と、発生したイオンを放電電極間に印加する進行波電界により搬送するイオン搬送部とを備えたことを特徴とするイオン発生装置。

IPC (2)：

H01T23/00 ,  H01T19/00

FI (2)：

H01T23/00 ,  H01T19/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開平2-164377号公報
  
• 固体表面の清浄化方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-208412   Applicant：株式会社荏原製作所