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J-GLOBAL ID:200903012513245827

複合酸化物及び排ガス浄化用触媒

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003343323
Publication number (International publication number):2005104799
Application date: Oct. 01, 2003
Publication date: Apr. 21, 2005
Summary:
【課題】高温耐久時の担体の劣化及びPtの粒成長を抑制する。【解決手段】Al/(Ce+Zr)が 1/20〜50/20の範囲にあるCeO2-ZrO2-Al2O3複合酸化物にPtを担持した。 Al2O3を共存させることによって、CeO2-ZrO2粒子の粒成長が抑制され、1000°C付近の高温での比表面積の低下が抑制される。そして高温での熱処理によってCeを易還元性とすることができ、酸素放出速度が向上するため低温活性が向上する。さらに Al2O3とCeO2-ZrO2との比率を最適化することにより、担体の耐熱性を維持しつつ、Ptの粒成長を抑制できる。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
貴金属を担持して 500°Cの還元雰囲気に十分に晒した後に含有されるセリウム酸化物がCeO2-x(x= 0.3〜 0.5)であることを特徴とする複合酸化物。
IPC (4):
C01F17/00 ,  B01D53/94 ,  B01J23/63 ,  C01G25/00
FI (5):
C01F17/00 B ,  C01G25/00 ,  B01J23/56 301A ,  B01D53/36 104A ,  B01D53/36 102H
F-Term (88):
4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA18 ,  4D048AB05 ,  4D048AB07 ,  4D048BA03X ,  4D048BA08X ,  4D048BA19X ,  4D048BA30X ,  4D048BA42X ,  4D048BB01 ,  4D048EA04 ,  4G048AA03 ,  4G048AB02 ,  4G048AB05 ,  4G048AC08 ,  4G048AD06 ,  4G048AE05 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BB01C ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC16A ,  4G069BC16B ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069BC51A ,  4G069BC51B ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069BD01C ,  4G069BD02C ,  4G069CA02 ,  4G069CA03 ,  4G069CA09 ,  4G069EA02Y ,  4G069EB18Y ,  4G069ED06 ,  4G069FA03 ,  4G069FB09 ,  4G069FB10 ,  4G069FB40 ,  4G069FB44 ,  4G069FC02 ,  4G069FC07 ,  4G069FC08 ,  4G076AA02 ,  4G076AA18 ,  4G076AB01 ,  4G076BA14 ,  4G076BA15 ,  4G076BA42 ,  4G076BA45 ,  4G076DA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BB01C ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BC16A ,  4G169BC16B ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169BD01C ,  4G169BD02C ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA09 ,  4G169EA02Y ,  4G169EB18Y ,  4G169ED06 ,  4G169FA03 ,  4G169FB09 ,  4G169FB10 ,  4G169FB40 ,  4G169FB44 ,  4G169FC02 ,  4G169FC07 ,  4G169FC08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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