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J-GLOBAL ID：200903012971218952

ケイ素含有感光性樹脂及びこれを含有する組成物

Inventor：
藤山 毅

About 藤山 毅

, 
寺本 武郎

About 寺本 武郎


Applicant, Patent owner：
新日鐵化学株式会社

About 新日鐵化学株式会社


Agent (1)： 成瀬 勝夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999122672
Publication number (International publication number)：2000313744
Application date： Apr. 28, 1999
Publication date： Nov. 14, 2000
Summary：
【要約】【課題】 多層レジスト法用のレジスト材やPDP障壁形成用レジスト材として優れた性能を示すケイ素含有感光性樹脂を提供すること、特に、耐プラズマ性(耐O2-RIE)性に優れると共に、パターンを形成したとき、高いアスペクト比を得ることができるレジスト材を提供すること。【解決手段】 ポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の全部又は一部に、下記一般式で表わされるトリオルガノシリル基が結合していることを特徴とするケイ素含有感光性樹脂並びにこのケイ素含有感光性樹脂に光増感剤を配合したことを特徴とする感光性樹脂組成物である。Ar-OOC-R1(COOR2)n-COR3-Si(CH3)2-(但し、式中Arはo-ニトロベンジル基を、R1は多価カルホ ゙ン酸の残基を、R2はH又はo-ニトロベンジル基を、R3は2価の有機基を示す。)
Claim (excerpt)：
ポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の全部又は一部に、下記一般式(1)で表わされるトリオルガノシリル基が結合していることを特徴とするケイ素含有感光性樹脂。 Ar-OR-Si(CH3)2- (1)(但し、式中Arはo-ニトロベンジル基を示し、Rは2価の有機基を示す。)
IPC (3)：
C08G 77/388 ,  C08L 83/08 ,  G03F 7/075 511
FI (3)：
C08G 77/388 ,  C08L 83/08 ,  G03F 7/075 511
F-Term (21)：
2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF30 ,  2H025CB33 ,  4J002CP031 ,  4J002EV296 ,  4J002GP03 ,  4J035BA12 ,  4J035CA09M ,  4J035CA091 ,  4J035CA10M ,  4J035CA101 ,  4J035CA18M ,  4J035CA181 ,  4J035FB01 ,  4J035LA03 ,  4J035LB16
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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