ケイ素含有感光性樹脂及びこれを含有する組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：成瀬勝夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999122672
Publication number (International publication number)：2000313744
Application date： Apr. 28, 1999
Publication date： Nov. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】多層レジスト法用のレジスト材やPDP障壁形成用レジスト材として優れた性能を示すケイ素含有感光性樹脂を提供すること、特に、耐プラズマ性(耐O2-RIE)性に優れると共に、パターンを形成したとき、高いアスペクト比を得ることができるレジスト材を提供すること。【解決手段】ポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の全部又は一部に、下記一般式で表わされるトリオルガノシリル基が結合していることを特徴とするケイ素含有感光性樹脂並びにこのケイ素含有感光性樹脂に光増感剤を配合したことを特徴とする感光性樹脂組成物である。Ar-OOC-R1(COOR2)n-COR3-Si(CH3)2-(但し、式中Arはo-ニトロベンジル基を、R1は多価カルボン酸の残基を、R2はH又はo-ニトロベンジル基を、R3は2価の有機基を示す。)

Claim (excerpt)：

ポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の全部又は一部に、下記一般式(1)で表わされるトリオルガノシリル基が結合していることを特徴とするケイ素含有感光性樹脂。 Ar-OR-Si(CH3)2- (1)(但し、式中Arはo-ニトロベンジル基を示し、Rは2価の有機基を示す。)

IPC (3)：

C08G 77/388 , C08L 83/08 , G03F 7/075 511

FI (3)：

C08G 77/388 , C08L 83/08 , G03F 7/075 511

F-Term (21)：

2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BF30 , 2H025CB33 , 4J002CP031 , 4J002EV296 , 4J002GP03 , 4J035BA12 , 4J035CA09M , 4J035CA091 , 4J035CA10M , 4J035CA101 , 4J035CA18M , 4J035CA181 , 4J035FB01 , 4J035LA03 , 4J035LB16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平4-025530
シリコーン化合物及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-060904 Applicant：新日鐵化学株式会社, 新日本製鐵株式会社
特開平4-268378

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