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J-GLOBAL ID:200903013148462674
プローブ及びその製造方法並びに光記録装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005194844
Publication number (International publication number):2007012223
Application date: Jul. 04, 2005
Publication date: Jan. 18, 2007
Summary:
【課題】 先端径の小さなプローブ及びその製造方法並びに鮮明な近接場光記録が可能な光記録装置の提供。【解決手段】 プローブ本体の先端部に担体層を設ける工程と、前記担体層に金属粒子を担持させる工程と、前記担体層に担持された金属粒子をシンタリングさせる工程と、を有するか、又は先端部に金属層の設けられたプローブ本体の前記金属層表面に金属イオンを含む自己組織化分子を付着させる工程と、前記自己組織化分子を加熱して前記金属層表面に金属粒子を付着させる工程と、を有するプローブの製造方法及びその方法により得られたプローブ並びに該プローブを備えた光記録装置。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
プローブ本体の先端部に担体層を設ける工程と、
前記担体層に金属粒子を担持させる工程と、
前記担体層に担持された金属粒子をシンタリングさせる工程と、
を有するプローブの製造方法。
IPC (5):
G11B 7/22
, G01N 13/10
, G01N 13/14
, G11B 7/135
, G12B 21/06
FI (5):
G11B7/22
, G01N13/10 G
, G01N13/14 B
, G11B7/135 Z
, G12B1/00 601C
F-Term (4):
5D789AA21
, 5D789CA22
, 5D789DA01
, 5D789NA05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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散乱型近接場プローブ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-251785
Applicant:日本分光株式会社
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