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J-GLOBAL ID：200903013155210800

高周波ナイフ

Inventor：
岡田 勉

About 岡田 勉


Applicant, Patent owner：
オリンパス株式会社

About オリンパス株式会社


Agent (4)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  村松 貞男 ,  風間 鉄也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003113164
Publication number (International publication number)：2004313537
Application date： Apr. 17, 2003
Publication date： Nov. 11, 2004
Summary：
【課題】本発明は、ナイフ部(電極部)がふらつくことなく、出血部位を迅速に洗浄することが可能な高周波ナイフを提供することを最も主要な特徴とする。【解決手段】ナイフ部11に可撓性シース2の軸方向に延設された棒状電極部12を設け、可撓性シース2の先端部を閉塞する先端チップ8に棒状電極部12を可撓性シース2の軸方向に進退可能に挿通する摺動孔18と、棒状電極部12が進入できない送液用開口部19とを設けたものである。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
電気絶縁性を有する可撓性シースと、 少なくとも一部が棒状部をなし、前記可撓性シースの先端部に設けられた摺動孔から前記棒状部が軸方向に突没する電極部と、 前記可撓性シースの基端部に設けられ、前記可撓性シース内に送液する送液手段と、を具備し、 前記可撓性シースの先端部には、前記棒状部が進入できない送液開口部が、前記摺動孔と連通して設けられていることを特徴とする高周波ナイフ。
IPC (1)：
A61B18/12
FI (2)：
A61B17/39 310 ,  A61B17/39 320
F-Term (7)：
4C060KK03 ,  4C060KK04 ,  4C060KK06 ,  4C060KK09 ,  4C060KK13 ,  4C060KK50 ,  4C060MM24
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 内視鏡用治療装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-107442   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
  • 鼻腔用処置具
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-217718   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
  • バイポーラ凝固子
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-285187   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
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Cited by examiner (7)
  • 特開平4-329944
  • 鼻腔用処置具
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-217718   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
  • 電極付処置具
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-312247   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
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