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J-GLOBAL ID:200903013199555120

窒素酸化物を含むガスの浄化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 名嶋 明郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998128006
Publication number (International publication number):1999123318
Application date: May. 12, 1998
Publication date: May. 11, 1999
Summary:
【要約】【課題】 SCR 装置のランニングコストを十分低減することができる窒素酸化物を含むガスの浄化装置を提供すること。【解決手段】 窒素酸化物を含むガスを浄化するために、ガスは熱交換器(1) で予備加熱されバーナー(41)により再加熱され還元剤との混合した後、窒素酸化物を還元するために還元触媒(60)に供給される一方、熱交換器(1) は、触媒(60)を通過した脱窒素化ホットガスによって加熱される。使用した熱交換器(1) は、セラミック製蓄熱充填材(8,9) で満たされた少なくとも2つの蓄熱室(6,7) を備えており、浄化されるガスは各蓄熱室(6,7) の蓄熱充填材(8,9) によって交互に予備加熱されるが、この蓄熱充填材(8,9) は、他の蓄熱室(7,6) に反して触媒を通過したホットガスによって前段階で加熱されている。
Claim (excerpt):
各蓄熱室(6,7) の一端に未処理ガスの供給ダクト(5) 及び蓄熱室(6,7) により冷却される脱窒素化ガスの排気ダクト(36)を接続し、また各蓄熱室(6,7) の他端に各蓄熱室(6,7) により予備加熱された未処理ガスの排気ダクト(40)あるいは脱窒素化ホットガスの供給ダクト(32)を接続しているとともに、2つのメイン遮断装置(11,11')を備えており、これら各メイン遮断装置(11,11')は、上部壁(13,13')、下部壁(14,14')及び各部屋(12,12')を各々2つの小部屋(16,16',17,17') に仕切る仕切壁(15,15')が上部壁(13,13')及び下部壁(14,14')間に設けられた部屋(12,12')から構成されていて、各小部屋(16,16',17,17') には、上部壁(13,13')と下部壁(14,14')に各1 個開閉可能な開孔(20,20',21,21',22,22',23,23') があり、各小部屋(16,16',17,17') の2個一対の開孔(20,20',21,21',22,22',23,23') を開閉するためにダンパーディスク(18,18',19,19') を操作するコントロールユニット(24a,24a',24b,24b') が設けられており、前記メイン遮断装置(11)の小部屋(16,17) は蓄熱室(6,7) と未処理ガスの供給ダクト(5) を接続しているとともに、他方の小部屋(17,16) は他の蓄熱室(7,6) と冷却された脱窒素化ガスの排気ダクト(36)を接続しており、一方、他のメイン遮断装置(11') の小部屋(16',17') は蓄熱室(6,7) と予備加熱された未処理ガスの排気ダクト(40)を接続しているとともに、他方の小部屋(17',16') は他の蓄熱室(7,6) と脱窒素化ホットガスの供給ダクト(32)を接続している窒素酸化物を含むガスの浄化装置であって、窒素酸化物を含む未処理ガスは、予備加熱するために蓄熱体を充填した2つの蓄熱室に交互に供給されてバーナーにより再加熱され、還元剤と混合された後、窒素酸化物を還元するために還元触媒に供給される一方、触媒を通過し脱窒素化されたガスは、反対に他の蓄熱室の蓄熱体を加熱し、更に、未処理ガスを蓄熱室に供給し脱窒素化したガスを他の蓄熱室に交互に供給するために、各蓄熱室の一端は未処理ガスの吸引ダクトと冷却された脱硝済みガスの排気ダクトと交互に接続され、各蓄熱室の他端は予備加熱された未処理ガスの排気ダクトと脱窒素化ホットガスの供給ダクトと交互に接続されていることを特徴とする窒素酸化物を含むガスの浄化装置。
IPC (2):
B01D 53/94 ,  B01D 53/86 ZAB
FI (2):
B01D 53/36 101 A ,  B01D 53/36 ZAB G
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
  • 特開平4-371238
  • 特開昭60-248220
  • 有害ガス加熱浄化装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-218364   Applicant:松下電器産業株式会社
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