多層ウエハ用ゲッタ及びその作製法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岡部正夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995135526
Publication number (International publication number)：1995335654
Application date： Jun. 02, 1995
Publication date： Dec. 22, 1995
Summary：

【要約】【目的】接合ウエハのような誘電的分離ウエハ構造用の、ゲッタ構造を提供する。【構成】ゲッタ層は、溝により相互に分離された半導体領域を有するウエハ上に、堆積させる。層はエッチバックし、半導体領域の側壁に沿って、ポリシリコンの層を残す。ポリシリコンはドープしてもよい。ポリシリコンは酸化し、溝中の空孔を満すため、ポリシリコンを、堆積させる。

Claim (excerpt)：

動作層(たとえば13)及び操作層(たとえば11)を有し、動作層は溝(たとえば15)により、部分に分割され、各動作層部分は溝により形成された小表面(たとえば16)を有するウエハ(たとえば10)において、小表面の少くとも1つの上のゲッタリング層(たとえば17)を特徴とするウエハ。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (33)

特開昭63-038235
特開昭63-038235
特開平4-114433

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