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J-GLOBAL ID：200903013246655790

欠陥検査方法及びその装置

Inventor：
酒井 薫

About 酒井 薫

, 
前田 俊二

About 前田 俊二

, 
岡部 隆史

About 岡部 隆史


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 小川 勝男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001276612
Publication number (International publication number)：2003083907
Application date： Sep. 12, 2001
Publication date： Mar. 19, 2003
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】検査対象画像を参照画像と比較してその差異から欠陥を検出する欠陥検査において、対象画像内の位置ずれや画像歪み等について、画像間の明るさを合わせ込んで検査を行うとともに、しきい値設定のみで虚報の低減と欠陥の高感度検出を両立させ、感度調整が容易な欠陥検査方式及び装置を提供する。【解決手段】検査対象画像と参照画像の差異が小さくなるような補正を画像のコントラストに応じて行う。微小な位置ずれ部分では、必要に応じて画像間の明るさを特に強く合わせ込む手段により、検査対象領域全体に対して唯一の低しきい値で虚報の発生低減と高感度検査を実現する。また、検査対象が半導体ウェハであった場合、ウェハ内の膜厚の違いにより生じる画像間の明るさの違いをあらかじめ合わせ込む手段により、感度を落とさずに明るさむらによる虚報の発生を避け、かつ、唯一のしきい値で容易に感度調整を可能とする。
Claim (excerpt)：
被検査対象の検出画像と基準となる参照画像の位置ずれ量を検出する位置ずれ量検出過程と、該位置ずれ量検出過程で算出された位置ずれ量を用いて前記検出画像と前記参照画像との間の位置ずれ量を補正し、該補正された検出画像と参照画像の非欠陥部分の差異が小さくなるように少なくとも一方の画像の明るさを合わせ込み、該明るさを合わせ込まれた検出画像と参照画像とを比較してその差異から欠陥もしくは欠陥候補を検出する欠陥検出過程とを有することを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (4)：
G01N 21/956 ,  G06T 7/00 300 ,  G06T 7/60 150 ,  H01L 21/66
FI (4)：
G01N 21/956 A ,  G06T 7/00 300 E ,  G06T 7/60 150 B ,  H01L 21/66 J
F-Term (32)：
2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051BA05 ,  2G051CA03 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051ED07 ,  2G051ED08 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106CA50 ,  4M106DB04 ,  4M106DB20 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23 ,  5L096BA03 ,  5L096EA12 ,  5L096EA14 ,  5L096EA35 ,  5L096FA06 ,  5L096FA17 ,  5L096FA34 ,  5L096FA37 ,  5L096FA69 ,  5L096GA04 ,  5L096GA08 ,  5L096HA07 ,  5L096JA11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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