パターン欠陥検査方法及びその装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000206866
Publication number (International publication number)：2001194323
Application date： Jul. 04, 2000
Publication date： Jul. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】本発明は、微細な回路パターンを高い分解能で検出し、欠陥を検出する方法及び装置を提供することにある。【解決手段】試料の像を検出する対物レンズと、その瞳に対して照明を行うレーザ照明手段と、レーザ照明の可干渉性を低減する手段と、蓄積型の検出器と、その検出信号を処理する手段とからなる。

Claim (excerpt)：

レーザ光を出射するレーザ光源と、該レーザ光源から出射したレーザ光の可干渉性を低減して試料上に照射する照射手段と、該照射手段により可干渉性が低減されて照射された試料を撮像して画像信号を検出する画像検出手段と、該画像検出手段で検出された検出画像信号に関する情報に基いて試料に形成されたパターンの欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (5)：

G01N 21/956 , G01B 11/24 , G01B 11/30 , G06T 1/00 305 , H01L 21/66

FI (6)：

G01N 21/956 A , G01B 11/30 A , G06T 1/00 305 A , H01L 21/66 J , G01B 11/24 K , G01B 11/24 F

F-Term (140)：

2F065AA49 , 2F065AA56 , 2F065BB02 , 2F065BB18 , 2F065CC18 , 2F065CC19 , 2F065CC25 , 2F065DD04 , 2F065DD06 , 2F065DD09 , 2F065DD16 , 2F065EE00 , 2F065EE08 , 2F065EE09 , 2F065FF42 , 2F065FF48 , 2F065FF49 , 2F065FF67 , 2F065GG04 , 2F065GG22 , 2F065HH05 , 2F065HH08 , 2F065HH17 , 2F065JJ02 , 2F065JJ09 , 2F065JJ25 , 2F065LL04 , 2F065LL05 , 2F065LL08 , 2F065LL09 , 2F065LL10 , 2F065LL12 , 2F065LL13 , 2F065LL15 , 2F065LL21 , 2F065LL30 , 2F065LL34 , 2F065LL35 , 2F065LL36 , 2F065LL37 , 2F065LL46 , 2F065LL49 , 2F065LL53 , 2F065LL57 , 2F065LL62 , 2F065LL65 , 2F065MM02 , 2F065MM16 , 2F065MM24 , 2F065MM28 , 2F065NN06 , 2F065PP12 , 2F065PP13 , 2F065QQ00 , 2F065QQ03 , 2F065QQ04 , 2F065QQ08 , 2F065QQ11 , 2F065QQ13 , 2F065QQ17 , 2F065QQ18 , 2F065QQ21 , 2F065QQ23 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ26 , 2F065QQ27 , 2F065QQ29 , 2F065QQ36 , 2F065QQ38 , 2F065QQ41 , 2F065QQ42 , 2F065QQ47 , 2F065RR01 , 2F065RR02 , 2F065RR05 , 2F065RR06 , 2F065UU07 , 2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AA73 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051AB20 , 2G051BA05 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051BA20 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CC13 , 2G051DA07 , 2G051DA08 , 2G051EA04 , 2G051EA08 , 2G051EA09 , 2G051EA11 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051EC03 , 2G051EC06 , 2G051ED07 , 2G051FA10 , 4M106AA01 , 4M106BA05 , 4M106BA07 , 4M106CA39 , 4M106CA50 , 4M106DB04 , 4M106DB07 , 4M106DB08 , 4M106DB13 , 4M106DB14 , 4M106DB19 , 4M106DB20 , 4M106DB21 , 4M106DB30 , 4M106DJ04 , 4M106DJ06 , 4M106DJ18 , 4M106DJ20 , 4M106DJ21 , 5B057AA03 , 5B057BA01 , 5B057BA21 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CB08 , 5B057CB12 , 5B057CC01 , 5B057CH11 , 5B057DA03 , 5B057DA06 , 5B057DA07 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC31

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

フォトマスク修復方法、検査方法、検査装置及びフォトマスク製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-178300 Applicant：株式会社東芝
特開昭63-081420
欠陥検査方法およびその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-037128 Applicant：株式会社日立製作所

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