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J-GLOBAL ID:200903013248330635

X線元素分析装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 最上 健治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999311853
Publication number (International publication number):2001133419
Application date: Nov. 02, 1999
Publication date: May. 18, 2001
Summary:
【要約】【課題】 専門家でなくても測定値の信頼性についての知見を得ることがきると共に、要求精度の分析測定を自動的に行えるようにしたX線元素分析装置を提供する。【解決手段】 本測定に開始する前の予備測定により得られた測定スペクトル上に所定の関心領域を設定し、設定された関心領域の測定スペクトルに関する統計誤差を算出する。算出された統計誤差に基づいて予め設定されている測定時間に対する予想精度を算出して表示する。その精度がオペレータの期待精度と異なる場合、オペレータが予想精度を期待精度値に修正することによって該統計誤差に基づいて算出された測定時間が設定される。これにより、要求精度の測定を自動的に行うことができる。
Claim (excerpt):
一次線の照射された試料より放出されるX線を検出して試料表面の分析測定を行うX線元素分析装置において、本測定を開始する前の短時間の予備測定により得られた測定スペクトルに対して所定の関心領域を設定する手段と、設定された関心領域の測定スペクトルに関する統計誤差を算出する手段と、算出された統計誤差に基づき入力設定されている測定時間に対する予想精度を算出し表示する手段と、入力設定されている期待精度を得るのに必要な測定時間を、前記予想精度に基づき算出し設定する手段とを備えていることを特徴とするX線元素分析装置。
F-Term (16):
2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001EA03 ,  2G001FA25 ,  2G001GA01 ,  2G001GA03 ,  2G001JA11 ,  2G001JA20 ,  2G001NA07 ,  2G001NA08 ,  2G001NA10 ,  2G001NA11 ,  2G001NA13 ,  2G001NA15 ,  2G001NA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 測定機
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-296649   Applicant:株式会社ミツトヨ
Article cited by the Patent:
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