変位測定装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小島俊郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999012605
Publication number (International publication number)：2000213910
Application date： Jan. 21, 1999
Publication date： Aug. 04, 2000
Summary：

【要約】【課題】部品点数が少なく簡単な構成で微少変位を高精度に計測する。【解決手段】光源2の波長以下の周期で配列された開口部が設けられたパターン部32を有するスケール3に光源2からの光を照射し、パターン部32でから生じるエバネッセント波を散乱体3で散乱し、散乱光を集光して検出し、スケール3の微少な移動量に対し大きな信号強度の変化を検出する。

Claim (excerpt)：

光源とスケールと散乱体とレンズ及び受光素子を有し、スケールは光源の波長以下の周期で配列された開口部を有し、散乱体はスケールの光源と反対側の表面近傍で、光源から出射する光の波長又は波長より短い距離の近接場に設けられ、スケールからのエバネッセント波を散乱し、レンズは散乱体で散乱した光を受光素子に集光することを特徴とする変位測定装置。

IPC (3)：

G01B 11/00 , G01D 5/34 , G01D 5/38

FI (3)：

G01B 11/00 A , G01D 5/38 A , G01D 5/34 D

F-Term (27)：

2F065AA02 , 2F065AA07 , 2F065BB02 , 2F065BB21 , 2F065BB22 , 2F065BB24 , 2F065CC21 , 2F065DD03 , 2F065DD04 , 2F065FF41 , 2F065GG06 , 2F065HH00 , 2F065HH13 , 2F065JJ18 , 2F065LL00 , 2F065LL28 , 2F065UU07 , 2F103BA37 , 2F103CA02 , 2F103CA07 , 2F103DA01 , 2F103DA12 , 2F103EA15 , 2F103EB02 , 2F103EB12 , 2F103EB33 , 2F103EC04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

位置検出装置及びそれを用いた加工機
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-150072 Applicant：キヤノン株式会社

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