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J-GLOBAL ID:200903013620752096
ガス分離装置およびガス分離方法
Inventor:
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,
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Applicant, Patent owner:
Agent (3):
奥山 尚一
, 有原 幸一
, 松島 鉄男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005131169
Publication number (International publication number):2006305463
Application date: Apr. 28, 2005
Publication date: Nov. 09, 2006
Summary:
【課題】 凝縮性ガスの露点以上という高温領域でも、ガス分離膜の凝縮性ガス透過速度を高く維持することができるガス分離装置およびガス分離方法を提供する。【解決手段】 ガス分離装置10は、凝縮性ガスを選択的に透過させる機能膜を備えたガス分離膜20と、このガス分離膜20を挟んで、凝縮性ガスを含有する被処理ガスが流れる被処理ガス流路27と、ガス分離膜を透過した凝縮性ガスが流れる透過ガス流路28とを含み、このガス分離膜20は、被処理ガス流路27側の表面の有効表面積が、透過ガス流路28側の表面の有効表面積よりも大きくなるように構成されている。この有効表面積が大きい被処理ガス流路27に、被処理ガス1を供給して、凝縮性ガス4を分離する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
凝縮性ガスを選択的に透過させる機能膜を備えたガス分離膜と、このガス分離膜を挟んで、前記凝縮性ガスを含有する被処理ガスが流れる被処理ガス流路と、前記ガス分離膜を透過した凝縮性ガスが流れる透過ガス流路とを含んでなるガス分離装置において、このガス分離膜は、前記被処理ガス流路側の表面の有効表面積が、前記透過ガス流路側の表面の有効表面積よりも大きいことを特徴とするガス分離装置。
IPC (12):
B01D 53/22
, B01D 63/06
, B01D 69/00
, B01D 69/12
, B01D 71/02
, B01D 71/16
, B01D 71/38
, B01D 71/40
, B01D 71/44
, B01D 71/52
, B01D 71/60
, B01D 71/70
FI (12):
B01D53/22
, B01D63/06
, B01D69/00
, B01D69/12
, B01D71/02 500
, B01D71/16
, B01D71/38
, B01D71/40
, B01D71/44
, B01D71/52
, B01D71/60
, B01D71/70 500
F-Term (19):
4D006GA41
, 4D006HA21
, 4D006HA77
, 4D006KA16
, 4D006MA02
, 4D006MA09
, 4D006MA34
, 4D006MC03
, 4D006MC18
, 4D006MC33
, 4D006MC36
, 4D006MC42
, 4D006MC45
, 4D006MC60
, 4D006MC65
, 4D006PB18
, 4D006PB65
, 4D006PB66
, 4D006PB68
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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特開平2-280812号公報
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反応器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-215571
Applicant:三菱重工業株式会社
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水素製造装置及び水素製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-340531
Applicant:三菱重工業株式会社
-
特開平3-242231号公報
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液体混合物分離膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-331141
Applicant:三井造船株式会社
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特開昭58-84005号公報
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特開昭59-109204号公報
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Cited by examiner (7)
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特開昭61-064304
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ガス精製装置およびこれを用いた燃料電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-329624
Applicant:京セラ株式会社
-
除加湿エレメント、除加湿ユニット及び除加湿装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-228359
Applicant:ジャパンゴアテックス株式会社
-
ガス分離モジュールおよびガス分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-296942
Applicant:京セラ株式会社
-
水分保有ガスからの水分の除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-151301
Applicant:エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド
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特開昭63-218233
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特開平3-065229
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