マスク用基板の製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997056170
Publication number (International publication number)：1998106943
Application date： Mar. 11, 1997
Publication date： Apr. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】必要最小限の支柱の幅を形成するマスク用基板の製造方法を提供する。【解決手段】少なくとも、シリコン層、メンブレン材料を形成してなる層を順次積層してなる基板を用意する工程と、前記シリコン層上に酸化シリコン層を形成し、該酸化シリコン層に所定のパターンを形成する工程と、前記酸化シリコン層のパターンに合わせて前記シリコン層を垂直方向にエッチングが可能なドライエッチング法によりエッチングする工程と、を有するマスク用基板の製造方法。

Claim (excerpt)：

少なくとも、シリコン層、メンブレン材料を形成してなる層を順次積層してなる基板を用意する工程と、前記シリコン層上に酸化シリコン層を形成し、該酸化シリコン層に所定のパターンを形成する工程と、前記酸化シリコン層のパターンに合わせて前記シリコン層を垂直方向にエッチングが可能なドライエッチング法によりエッチングする工程と、を有するマスク用基板の製造方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 1/16

FI (4)：

H01L 21/30 531 M , G03F 1/16 A , G03F 1/16 B , H01L 21/30 541 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

EB部分一括アパチャー及びX線マスクの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-341835 Applicant：日本電気株式会社
特開平3-110820
特開平4-137718

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