荷電粒子線装置および自動非点収差調整方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：作田康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001202904
Publication number (International publication number)：2003016983
Application date： Jul. 04, 2001
Publication date： Jan. 17, 2003
Summary：

【要約】【課題】高速・高精度の非点収差・焦点調整を行なうことができるようにした荷電粒子線装置および自動非点収差補正方法を提供することにある。【解決手段】2種類のスキャン方向で焦点を変化させながら取得した少数の2次元の粒子画像を画像処理することによって非点隔差の方向・大きさと焦点オフセットを検出し、これを2種類の非点収差補正量と焦点補正量に一括して変換して補正を行なうことによって高速・高精度の自動非点・焦点調整を実現する。また、非点較差の誤差を補正してより高精度な自動非点・焦点調整を実現する。さらに、本自動非点収差・焦点調整を用いて高精度の検査・計測を長時間にわたって実現する装置を実現する。

Claim (excerpt)：

試料を設置するステージと、荷電粒子源から発せられた荷電粒子ビームを収束する荷電粒子光学系と、該荷電粒子光学系によって収束された収束荷電粒子ビームを走査して前記試料上に照射する走査手段と、前記荷電粒子光学系によって収束された収束荷電粒子ビームの焦点位置を制御する焦点制御手段と、前記荷電粒子光学系によって収束する収束荷電粒子ビームの非点収差を調整する非点収差調整手段と、前記走査手段によって収束荷電粒子ビームが走査照射された試料から発生する複数の焦点位置を有する粒子画像を検出して複数の焦点位置を有する2次元の粒子画像を得る焦点スキャン動作を2回繰り返して行う粒子画像検出手段と、該粒子画像検出手段から得られる2組の複数の焦点位置を有する2次元の粒子画像に基いて前記収束荷電粒子ビームの非点隔差を算出する画像処理手段と、該画像処理手段で算出された収束荷電粒子ビームの非点隔差に基づいて非点収差補正量を前記非点収差調整手段にフィードバックして収束荷電粒子ビームの非点収差を調整制御する制御系とを備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。

IPC (3)：

H01J 37/153 , G01N 23/225 , H01J 37/28

FI (3)：

H01J 37/153 B , G01N 23/225 , H01J 37/28 B

F-Term (23)：

2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001BA14 , 2G001CA03 , 2G001DA02 , 2G001DA09 , 2G001FA01 , 2G001GA01 , 2G001GA06 , 2G001GA13 , 2G001HA13 , 2G001JA02 , 2G001JA03 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 5C033FF10 , 5C033JJ01 , 5C033JJ02 , 5C033JJ05 , 5C033MM07 , 5C033UU02 , 5C033UU04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

荷電粒子線装置および自動非点収差調整方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-192664 Applicant：株式会社日立製作所
特開昭59-018555
自動非点収差補正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-312778 Applicant：株式会社島津製作所

Return to Previous Page