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J-GLOBAL ID：200903013801232817

光学素子

Inventor：
前原 広

About 前原 広


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 日比谷 征彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999099309
Publication number (International publication number)：2000292613
Application date： Apr. 06, 1999
Publication date： Oct. 20, 2000
Summary：
【要約】【課題】 バイナリオプティックス素子の自重変形を解消する。【解決手段】 基板20に任意の応力を有する応力調整薄膜21を基板20の下面に形成することにより、この応力調整薄膜21の内部応力Sにより基板20は変形させることができる。この変形量dは応力調整薄膜21を成膜する基板20の材質、板厚、形状及び基板20に成膜する応力調整薄膜21の応力により決定され、更に基板20と応力調整薄膜21の材料の熱膨張係数の差及び設置温度によっても変形量dは変化する。従って、自重変形による変形量wと応力調整薄膜21の内部応力Sによる変形量dが相殺されるように、応力調整薄膜21の内部応力Sを決定することにより、基板20の変形を解消又は最小にすることができる。
Claim (excerpt)：
光学系において使用する屈折型の光学素子又は回折型の光学素子であって、表面に成膜した膜が前記光学系で使用する際の変形量を相殺するような応力値を有することを特徴とする光学素子。
IPC (3)：
G02B 5/18 ,  G02B 13/00 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G02B 5/18 ,  G02B 13/00 ,  H01L 21/30 515 D
F-Term (18)：
2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA63 ,  2H049AA64 ,  2H049AA68 ,  2H087KA21 ,  2H087RA46 ,  2H087UA03 ,  5F046AA11 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CB17 ,  5F046CD01 ,  5F046JA04 ,  5F046KA01 ,  5F046NA16 ,  9A001KK16 ,  9A001LL02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 光学薄膜およびその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-311788   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
  • マイクロレンズ基板
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-178523   Applicant：凸版印刷株式会社
  • 回折光学素子を有した光学系
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-126336   Applicant：キヤノン株式会社
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