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J-GLOBAL ID:200903013813249340

ガス供給装置及びガス供給方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 宮川 貞二 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001353110
Publication number (International publication number):2003156208
Application date: Nov. 19, 2001
Publication date: May. 30, 2003
Summary:
【要約】【課題】 発生されるガス中の不要物がガス利用装置に悪影響を与えないガス供給装置及びガス供給方法を提供することを目的とする。【解決手段】 被処理物aを熱分解して可燃性ガスbとチャーh、fを生成するガス化室1と、ガス化室1で生成したチャー分hを燃焼して燃焼ガスeを生成するチャー燃焼室2と、ガス化室1で生成した可燃性ガスbをガス利用装置201に供給する第1のガス経路301-1、301-2と、第1のガス経路301-1、301-2に配置された不要物除去装置404と、チャー燃焼室2で生成した燃焼ガスeを燃焼ガス排出部206に導く、第1のガス経路301-1、301-2とは別に設けられた第2のガス経路302とを備えるガス供給装置。
Claim (excerpt):
被処理物を熱分解して可燃性ガスとチャーを生成するガス化室と;前記ガス化室で生成したチャー分を燃焼して燃焼ガスを生成するチャー燃焼室と;前記ガス化室で生成した可燃性ガスをガス利用装置に供給する第1のガス経路と;前記第1のガス経路に配置された不要物除去装置と;前記チャー燃焼室で生成した燃焼ガスを燃焼ガス排出部に導く、前記第1のガス経路とは別に設けられた第2のガス経路とを備える;ガス供給装置。
IPC (5):
F23G 5/30 ,  C10J 3/00 ,  F23C 10/02 ,  F23G 5/027 ZAB ,  F23G 5/14
FI (6):
F23G 5/30 E ,  C10J 3/00 K ,  C10J 3/00 Z ,  F23G 5/027 ZAB B ,  F23G 5/14 E ,  F23C 11/02 311
F-Term (12):
3K061AA11 ,  3K061AB02 ,  3K061AC01 ,  3K061AC20 ,  3K061BA01 ,  3K061EA07 ,  3K061EB15 ,  3K064AB03 ,  3K064AD08 ,  3K064BA03 ,  3K064BA05 ,  3K064BA13
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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