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J-GLOBAL ID：200903013902502920

その場全反射蛍光XAFS測定装置

Inventor： 朝倉 清高 ,  田 旺帝 ,  岩澤 康裕 ,  小野 享寿 ,  宮本 和夫 ,  野村 昌治
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団 ,  株式会社ムサシノエンジニアリング
Agent (1)： 平山 一幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999237376
Publication number (International publication number)：2001033403
Application date： Jul. 20, 1999
Publication date： Feb. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】 試料を精度よく位置決めができるとともに3方向異なる方向に動かすことが可能なその場全反射蛍光XAFS測定装置を提供する。【解決手段】 高真空排気可能なチャンバー1と、サンプルへの全反射角、サンプルの方位角及び位置を調整する全反射サンプル方位位置調整機構2と、X線導入部4と、温度制御機構5と、蛍光X線測定部6と、ガス導入部8と、真空排気部11と、試料搬送装置13のチャンバー15とを結合するドッキング部12と、質量分析計14とを有している。チャンバー1内に全反射サンプル方位調整機構2を有し、3方向異なる方向に高精度に広角度回転し、試料への全反射角を設定する。

Claim (excerpt)：

サンプルホルダーを保持するサンプルステージと、このサンプルステージの3軸を広角度回転可能な3軸ゴニオメータと、上記サンプルステージの3方位軸を調整可能な位置調整機構と、X線導入部と、蛍光X線測定部とを圧力制御可能な高真空室内に備え、3つの軸が広範囲に回転し、偏光全反射蛍光XAFSを3方向から測定して3次元構造解析をする、その場全反射蛍光XAFS測定装置。

F-Term (22)：

2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001BA08 ,  2G001BA13 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA13 ,  2G001JA08 ,  2G001JA14 ,  2G001KA01 ,  2G001NA13 ,  2G001NA17 ,  2G001PA01 ,  2G001PA06 ,  2G001PA07 ,  2G001PA11 ,  2G001PA12 ,  2G001PA30 ,  2G001RA03 ,  2G001SA07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 全反射X線分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-009789   Applicant：株式会社日立製作所
• X線複合分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-186714   Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (2)

• 全反射X線分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-009789   Applicant：株式会社日立製作所
• X線複合分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-186714   Applicant：株式会社日立製作所