Pat

J-GLOBAL ID：200903013937844336

ディスクリート用ウェハの製造方法

Inventor： 福永 寿也 ,  津曲 敏路
Applicant, Patent owner： コマツ電子金属株式会社
Agent (1)： 衞藤 彰
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995141027
Publication number (International publication number)：1996306652
Application date： Apr. 27, 1995
Publication date： Nov. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 ディスクリート用のラップドウェハまたはエッチドウェハの金属汚染を低下させることができるディスクリート用ウェハの製造方法を提供する。【構成】 インゴットをスライスしてウェハを得る。ウェハの周縁部の面取りする。ウェハの切断面をラッピングする。ウェハをアルカリ洗浄する。ウェハをHF洗浄する。

Claim (excerpt)：

ラップドウェハをアルカリ洗浄して得られるディスクリート用ウェハの製造方法において、アルカリ洗浄されたウェハをHF洗浄することを特徴とするディスクリート用ウェハの製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ウェーハエッチングの前処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-022533   Applicant：三菱マテリアルシリコン株式会社, 三菱マテリアル株式会社
• 特開昭63-062329