Pat
J-GLOBAL ID:200903014000983671

合成ポリイソプレン及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (9): 中村 稔 ,  大塚 文昭 ,  熊倉 禎男 ,  宍戸 嘉一 ,  今城 俊夫 ,  小川 信夫 ,  村社 厚夫 ,  西島 孝喜 ,  箱田 篤
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002541966
Publication number (International publication number):2004513998
Application date: Oct. 29, 2001
Publication date: May. 13, 2004
Summary:
本発明は、シス-1,4結合の高含有量を有する合成ポリイソプレン及びその製造方法に関する。本発明の合成ポリイソプレンは、炭素-13核磁気共鳴又は中波赤外線放射分析の方法を使用して測定されるシス-1,4結合の含有量が厳密に99%よりも多い。これらの合成ポリイソプレンを製造する為の本発明方法は、イソプレンの存在下で触媒系を反応させる事から成り、且つ、触媒系として、少なくとも、共役ジエンモノマー、一種以上の希土類金属の有機燐酸塩、式:AlR3又はHALR2のアルキルアルミニウムアルキル化剤及びハロゲン化アルキルアルミニウムから成るハロゲン供与体を基本とした系で、アルキル化剤/希土類金属の有機燐酸塩のモル比が1〜5の範囲にある系を使用する工程、及びイソプレンの重合反応を0°C以下の温度で行う工程から成る。
Claim (excerpt):
炭素-13核磁気共鳴の方法及び中波赤外線放射分析方法を使用して測定されるシス-1,4結合の含有量が厳密に99.0%より多い事を特徴とする合成ポリイソプレン。
IPC (3):
C08F136/08 ,  C08F4/54 ,  C08F4/606
FI (3):
C08F136/08 ,  C08F4/54 ,  C08F4/606
F-Term (20):
4J015DA05 ,  4J015DA14 ,  4J100AS03P ,  4J100CA01 ,  4J100CA15 ,  4J100FA08 ,  4J100FA09 ,  4J100FA28 ,  4J128AA01 ,  4J128AB00 ,  4J128AC49 ,  4J128BC16B ,  4J128BC27B ,  4J128CB03A ,  4J128EB14 ,  4J128EC01 ,  4J128FA01 ,  4J128FA02 ,  4J128GA01 ,  4J128GA11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page