パターン形成用感光性樹脂組成物およびパターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：渡部剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994023585
Publication number (International publication number)：1995219228
Application date： Jan. 27, 1994
Publication date： Aug. 18, 1995
Summary：

【要約】【目的】製造が容易で、かつ耐熱性、成膜性、感光性等に優れたパターン形成用感光性樹脂組成物およびパターン形成方法を提供する。【構成】下記一般式(1)で示される繰り返し単位を含有する芳香族ポリアミドまたはそれと塩化ゴムとのブロック共重合体と、紫外線、X線または電子線照射により酸を発生する化合物とを含有するパターン形成用感光性樹脂組成物。【化1】(式中、Ar1 およびAr2 は、それぞれ芳香族基を表し、R1 およびR2 は、それぞれ水素原子、-OH、-OR3 、-OC(O)R3 、-OC(O)OR3または-OCH2 C(O)OR3 を表し、ただしR1 およびR2 の少なくとも一方は-OR3 、-OC(O)R3 、-OC(O)OR3 または-OCH2 C(O)OR3 を表す。ただし、R3 は置換基を有してもよい直鎖状または分枝鎖状アルキル基、アルアルキル基、またはアルキル基含有シロキシ基を表す。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示される繰り返し単位を含有する芳香族ポリアミドと、紫外線、X線または電子線照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするパターン形成用感光性樹脂組成物。【化1】(式中、Ar1 およびAr2 は、それぞれ芳香族基を表し、R1 およびR2 は、それぞれ水素原子、-OH、-OR3 、-OC(O)R3 、-OC(O)OR3または-OCH2 C(O)OR3 を表し、ただしR1 およびR2 の少なくとも一方は-OR3 、-OC(O)R3 、-OC(O)OR3 または-OCH2 C(O)OR3 を表す。ただし、R3 は置換基を有してもよい直鎖状または分枝鎖状アルキル基、アルアルキル基、またはアルキル基含有シロキシ基を表す。)

IPC (8)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 505 , G03F 7/033 , G03F 7/037 , G03F 7/039 501 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 569 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平3-020743
特開昭61-293204
特開昭62-054727

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