Pat

J-GLOBAL ID：200903014224895832

潜像崩壊に耐性のあるディープUV感受性フォトレジスト組成物

Inventor： リチャード エム.ラザラス ,  トーマス アラン コーズ
Applicant, Patent owner： モートン インターナショナル,インコーポレイティド
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994034687
Publication number (International publication number)：1994301201
Application date： Mar. 04, 1994
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 UV照射後、ベーキング工程前の延長された時間に向上したクリティカルディメンジョン安定性を有するポジティブワーキングディープUV感受性フォトレジストを提供する。【構成】 ポジティブワーキングディープUV感受性フォトレジストは、水に不溶性であるが、水性アルカリ媒体中で通常溶解性である酸安定ポリマー、3,5-ジニトロ-2,6-ジメチロールパラクレゾールのトリ-(2,1,4-ジアゾナフトキノンスルホネート)エステルによって代表される光酸発生体、並びに第三ブチルアルコールおよびポリヒドリックフェノールの混合されたカーボネートエステル(前記のアルカリ媒体中で通常に可溶性のポリマーの溶解を抑制する酸不安定化合物である)を含む。

Claim (excerpt)：

水に不溶性であるが、通常、水性アルカリ媒体中に可溶性であるポリマー、式、【化1】(ここで、Qはジアゾナフトキノン部分であり、Rは水素または-CH2 OS(=O)2 -Q部分であり、R1 は水素、ヒドロキシルまたは-O-S(=O)2-Qであり、R2 は水素または低級アルキルであり、Xは水素またはニトロ基であり、但し、Xがニトロ基であるとき、R2 は低級アルキルである。)を有する光酸発生体、および、前記のアルカリ媒体中に通常に可溶性のポリマーの溶解のためのの離散した酸不安定抑制剤である多価フェノールおよび第三ブチルアルコールの混合されたカーボネートエステルを含むポジティブワーキングフォトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光化学的に酸を発生するフォトレジスト用化合物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-004482   Applicant：モートンインターナショナル,インコーポレイティド