Pat

J-GLOBAL ID：200903014288716010

被膜除去方法および被膜除去剤

Inventor： 大 野 怜 子 ,  松 岡 輝 美
Applicant, Patent owner： 岩手東芝エレクトロニクス株式会社 ,  クロリンエンジニアズ株式会社 ,  株式会社東芝
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994088551
Publication number (International publication number)：1995297163
Application date： Apr. 26, 1994
Publication date： Nov. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ウエーハに付着する有機被膜や金属汚染被膜等の被膜を簡便に効率的に除去できる被膜除去方法およびそのための被膜除去剤を提供する。【構成】 被膜除去方法は、希フッ化水素水溶液と希塩酸との混合液等の酸の水溶液(12)の中にオゾン(13)を注入する工程と、この注入する工程により生じる気泡(18)にウエーハ等の基台(16)に付着された有機被膜または金属汚染被膜等の被膜(17)を接触させこの被膜(17)を基台(16)から除去する工程を備えることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

酸の水溶液の中にオゾンを注入する工程と、前記注入する工程により生じる気泡に基台に付着された被膜を接触させこの被膜を基台から除去する工程とを備えることを特徴とする被膜除去方法。

IPC (6)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/308 ,  B08B 3/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-103124
  
• 特開昭58-100433
  
• 基板処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-315068   Applicant：クロリンエンジニアズ株式会社