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J-GLOBAL ID：200903014314798216

超微粒子分散膜の製造方法及び製造装置

Inventor： 石井 清 ,  濱欠 裕貴 ,  隅山 兼治
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団
Agent (1)： 小倉 亘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998252494
Publication number (International publication number)：2000087233
Application date： Sep. 07, 1998
Publication date： Mar. 28, 2000
Summary：

【要約】【目的】 超微粒子が均一分散した薄膜を安定条件下で得る。【構成】 同じ真空室10に配置されているスパッタ源20,30から複数種の蒸気を発生させ、第1の蒸気を超微粒子に凝縮させた後、他の蒸気と筒状案内部11で相互に拡散混合しながら、同じ真空室10に配置されている基板Sの表面に導き蒸着させる。超微粒子及びマトリックスの蒸気は、筒状案内部11を通過する際に相互拡散し、均質化されたガス流となって基板S表面に導かれる。【効果】 ナノメータオーダーの超微粒子がマトリックスに均一分散した超微粒子分散膜が得られる。

Claim (excerpt)：

同じ真空室に配置されているスパッタ源から複数種の蒸気を発生させ、単数又は複数の第1の蒸気を筒状案内部で超微粒子に凝縮させた後、他の蒸気と相互に拡散混合しながら、同じ真空室に配置されている基板の表面に導き、第1の蒸気から生成する超微粒子が他の蒸気から生成するマトリックスに均一分散した蒸着膜を基板表面に形成することを特徴とする超微粒子分散膜の製造方法。

IPC (3)：

C23C 14/34 ,  H01L 21/203 ,  B22F 9/12

FI (3)：

C23C 14/34 T ,  H01L 21/203 S ,  B22F 9/12 Z

F-Term (17)：

4K017AA06 ,  4K017BA02 ,  4K017BB06 ,  4K017CA08 ,  4K017EG01 ,  4K017FA02 ,  4K029BA22 ,  4K029CA05 ,  4K029DA01 ,  4K029DC13 ,  4K029DC16 ,  5F103AA08 ,  5F103BB15 ,  5F103DD16 ,  5F103DD28 ,  5F103GG10 ,  5F103RR04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 非線形光学材料の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-319603   Applicant：松下電器産業株式会社
• 磁気記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-278017   Applicant：株式会社東芝