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J-GLOBAL ID:200903014368035226

ガス処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石黒 健二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998324784
Publication number (International publication number):2000140562
Application date: Nov. 16, 1998
Publication date: May. 23, 2000
Summary:
【要約】【課題】 通風抵抗が小さく、且つ処理対象ガスの処理効率が高いガス処理装置の提供。【解決手段】 ガス処理装置Aは、ダクト1内に間隔を開けて交互に垂直配置される放電電極2およびアース電極3と、これら電極間に配される触媒4とを備え、高電圧を各放電電極2- 各アース電極間3に印加して、発生するプラズマによりガス10を処理する。
Claim (excerpt):
通風路内を流れる処理対象ガスのガス流が直交して接触する様に、通風路内に配置されるハニカム構造触媒と、該ハニカム構造触媒を挟み、前記ガス流が直交して通過する様に通風路内に配置される放電電極およびアース電極とを備え、高電圧を前記放電電極- 前記アース電極間に印加して、発生するプラズマにより前記ガスを処理するガス処理装置。
IPC (8):
B01D 53/32 ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/40 ,  B01D 53/42 ,  B01D 53/86 ,  B01J 19/08 ,  B01J 21/06
FI (8):
B01D 53/32 ,  B01J 19/08 E ,  B01J 21/06 M ,  B01D 53/34 116 H ,  B01D 53/34 118 Z ,  B01D 53/34 119 ,  B01D 53/36 H ,  B01D 53/36 G
F-Term (45):
4D002AA03 ,  4D002AA06 ,  4D002AA13 ,  4D002AA14 ,  4D002AA32 ,  4D002AA40 ,  4D002AB02 ,  4D002AC10 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA07 ,  4D002CA20 ,  4D002DA70 ,  4D002GA01 ,  4D002GB20 ,  4D048AA01 ,  4D048AA03 ,  4D048AA08 ,  4D048AA17 ,  4D048AA19 ,  4D048AA22 ,  4D048AB03 ,  4D048AB05 ,  4D048BA07X ,  4D048BB02 ,  4D048CC33 ,  4D048EA03 ,  4G069AA04 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA13A ,  4G069BA13B ,  4G069CA01 ,  4G069CA10 ,  4G069CA17 ,  4G069DA06 ,  4G069EA18 ,  4G075AA03 ,  4G075BD01 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075EE12 ,  4G075EE33
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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