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J-GLOBAL ID：200903014386466420

高光度の平行ビーム生成装置

Inventor： 趙 相振 ,  李 彰煕 ,  金 泳珍 ,  李 正秀 ,  崔 永鉉 ,  洪 光杓
Applicant, Patent owner： 韓国原子力研究所 ,  韓国水力原子力株式会社
Agent (1)： 葛和 清司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003038500
Publication number (International publication number)：2004219393
Application date： Feb. 17, 2003
Publication date： Aug. 05, 2004
Summary：

【課題】X線、中性子ビーム等の光度を増加させると同時に分散を減らす。【解決手段】1次楕円72の一焦点71に配置する光源、光源から入射するビームを反射させるように1次楕円上に配置する凹面鏡で、1次楕円の境界面形をした1次ミラーと、1次ミラーで反射したビームの経路に配置する凸面鏡で、凸面鏡に入射するビーム入射地点の接線間の角度差が、1次ミラーに入射するビーム入射地点の接線間の角度の1/2になるようにした2次楕円73の境界面形をした2次ミラーとを備え、さらに1次ミラーは、1次楕円の短軸上頂点に配置するか空間の活用のために1次楕円の他焦点側の長軸上頂点と短軸上頂点間に配置する。【選択図】図7

Claim (excerpt)：

ミラーの楕円形配置により高光度の平行ビームを生成する装置において、1次楕円の一焦点に配置した光源、該光源から入射したビームを反射させるために前記1次楕円上に配置した凹面鏡で、前記1次楕円の境界面形をした1次ミラーと、該1次ミラーで反射したビームの経路に配置する凸面鏡で、該凸面鏡に入射するビーム入射地点の接線間の角度差が、前記1次ミラーに入射するビーム入射地点の接線間の角度差の1/2になるようにした2次楕円の境界面形をした2次ミラーとを備えることを特徴とする、前記高光度の平行ビーム生成装置。

IPC (2)：

G21K1/06 ,  G21K5/02

FI (4)：

G21K1/06 M ,  G21K1/06 B ,  G21K5/02 N ,  G21K5/02 X

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 微小領域平行光線照射装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-055752   Applicant：株式会社ニコン