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J-GLOBAL ID：200903014427112647

光学異方体の製造方法

Inventor： 河村 丞治 ,  小野 善之 ,  清水 洋
Applicant, Patent owner： 大日本インキ化学工業株式会社 ,  独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (1)： 志賀 正武 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001241217
Publication number (International publication number)：2003048903
Application date： Aug. 08, 2001
Publication date： Feb. 21, 2003
Summary：

【要約】【課題】 透明性に優れ、かつ光学位相差(リタデーション)の値の減少が少ない光学異方体を得る製造方法を提供する。【解決手段】 重合性官能基を有する液晶を含有し、20°C以下であっても液晶状態を示す重合性液晶組成物を、基板上に塗布して液膜を形成するかもしくは基板間に挟持した後、液晶を配向させた状態で、20°C以下で且つ液晶相を保持した状態で光重合させることを特徴とする光学異方体の製造方法。

Claim (excerpt)：

重合性官能基を有する液晶を含有し、20°C以下であっても液晶状態を示す重合性液晶組成物を、基板上に塗布して液膜を形成するか、もしくは基板間に挟持した後、液晶を配向させた状態で、20°C以下で、かつ、液晶相を保持した状態で光重合させることを特徴とする光学異方体の製造方法。

IPC (5)：

C08F 2/00 ,  C08F 2/48 ,  C08F220/10 ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/13 500

FI (5)：

C08F 2/00 C ,  C08F 2/48 ,  C08F220/10 ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/13 500

F-Term (24)：

2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BC05 ,  2H049BC09 ,  4J011CC09 ,  4J011CC10 ,  4J011UA01 ,  4J100AL08Q ,  4J100AL67P ,  4J100AT08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC23P ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC52P ,  4J100BC64P ,  4J100BC83P ,  4J100CA04 ,  4J100JA39

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光学異方体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-160514   Applicant：大日本インキ化学工業株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 化学辞典, 19941001, 第301頁