分子フッ素レーザシステム及びレーザ・ビーム帯域幅調整方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石田敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001184923
Publication number (International publication number)：2002050811
Application date： Jun. 19, 2001
Publication date： Feb. 15, 2002
Summary：

【要約】【課題】レーザの放電管内のガス混合物の圧力を調整することでレーザ・ビームの帯域幅を調整する分子フッ素レーザ・システム及び、方法を実現する。【解決手段】分子フッ素レーザ・システムには、分子フッ素と少なくとも1つのバッファ・ガスとを含み約2500mbar未満の全圧を有するガス混合物によって充填された放電管と、その放電管内の多数の電極と、その電極に接続されて上記ガス混合物に電圧を印加するパルス放電回路と、上記の放電管から放出される約157nmの多数の密接した間隔の輝線の1つを選択する輝線選択光学装置と、この輝線選択光学装置と上記の放電管を含み0.6pm未満の帯域幅で約157nmの波長を有するレーザ・パルスのビームを発生するレーザ共振器とが含まれる。

Claim (excerpt)：

分子フッ素レーザによって放出されるレーザ・ビーム帯域幅調整方法であって、前記レーザが、分子フッ素と少なくとも1つのバッファ・ガスとを含むガス混合物によって充填された放電管(102)と、該放電管内の電極(103)と、該電極に接続され前記ガス混合物に電圧を印加するためのパルス放電回路(104)とを具備し、前記方法が、前記ガス混合物の全圧を3000mbar未満に調整するステップを含むレーザ・ビーム帯域幅調整方法。

IPC (3)：

H01S 3/036 , H01S 3/134 , H01S 3/223

FI (3)：

H01S 3/134 , H01S 3/03 J , H01S 3/223 Z

F-Term (5)：

5F071AA04 , 5F071HH01 , 5F071HH05 , 5F071JJ05 , 5F071JJ10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

超狭帯域化フッ素レーザ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-190490 Applicant：株式会社小松製作所

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