チタンナノ細線、チタンナノ細線の製造方法、構造体及び電子放出素子

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：渡辺徳廣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998313939
Publication number (International publication number)：1999246300
Application date： Oct. 19, 1998
Publication date： Sep. 14, 1999
Summary：

【要約】【課題】基体上に特定の方向を有し、細線径が均一なチタンナノ細線を等間隔に配したチタンナノ細線の製造方法を提供する。【解決手段】チタンを含む表面を有する基体上に該表面に対して伸びる細孔を有する層を備えた構造体を用意する第1の工程、及び該構造体を熱処理して該細孔内にチタンを含む細線を形成する第2の工程を有するチタンナノ細線の製造方法。

Claim (excerpt)：

チタンを含む表面を有する基体上に該表面に対して伸びる細孔を有する層を備えた構造体を用意する第1の工程、及び該構造体を熱処理して該細孔内にチタンを含む細線を形成する第2の工程を有するチタンナノ細線の製造方法。

IPC (8)：

C30B 29/62 , C25D 11/04 305 , H01J 1/30 , H01L 21/28 301 , H01L 29/06 , B22F 9/02 , B22F 9/12 , B22F 9/14

FI (8)：

C30B 29/62 C , C25D 11/04 305 , H01J 1/30 F , H01L 21/28 301 R , H01L 29/06 , B22F 9/02 Z , B22F 9/12 Z , B22F 9/14 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

結晶ホイスカの制御成長方法と、該方法の尖頭超小型カソード製造への応用
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-053380 Applicant：トムソン-セーエスエフ
量子構造の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-207725 Applicant：ソニー株式会社
特開平3-174399

Show all

Return to Previous Page