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J-GLOBAL ID：200903014674974880

光学薄膜の製造方法及び光学薄膜

Inventor： 川俣 健 ,  渡邊 正 ,  鵜澤 邦彦 ,  豊原 延好 ,  和田 順雄 ,  出口 武司
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001308894
Publication number (International publication number)：2003114303
Application date： Oct. 04, 2001
Publication date： Apr. 18, 2003
Summary：

【要約】【課題】 フッ化物を含む基板やフッ化物薄膜上にイオンプレーティング法やイオンアシスト法で酸化物薄膜を形成するに際し、下地に光学的な吸収が発生することのない光学薄膜を作製する。【解決手段】 フッ化物を含む基板上またはフッ化物薄膜上に、真空蒸着法により酸化物膜を形成した後、酸化物膜の上にイオンプレーティング法またはイオンアシスト法により酸化物膜を形成する。真空蒸着法による酸化物膜がバリヤ層となって下地にイオンが衝突することを防ぐため、光学的な吸収が発生することがなくなる。

Claim (excerpt)：

フッ化物を含む基板上に、真空蒸着法により酸化物膜を形成した後、酸化物膜の上にイオンプレーティング法またはイオンアシスト法により酸化物膜を形成することを特徴とする光学薄膜の製造方法。

IPC (7)：

G02B 1/11 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/08 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/04 ,  G02B 5/26 ,  G02B 5/30

FI (8)：

C23C 14/06 P ,  C23C 14/08 ,  G02B 5/04 D ,  G02B 5/04 E ,  G02B 5/26 ,  G02B 5/30 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z

F-Term (33)：

2H042CA10 ,  2H042CA15 ,  2H042CA17 ,  2H048FA05 ,  2H048FA07 ,  2H048FA09 ,  2H048FA11 ,  2H048FA24 ,  2H049BA05 ,  2H049BA43 ,  2H049BC01 ,  2H049BC09 ,  2H049BC21 ,  2K009AA09 ,  2K009BB02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009CC42 ,  2K009DD04 ,  2K009DD07 ,  2K009EE00 ,  4K029AA04 ,  4K029BA42 ,  4K029BA43 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BB02 ,  4K029BC08 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029CA03 ,  4K029CA09 ,  4K029EA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-138501
  
• 特開昭54-153044
  
• 光学部品の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-006272   Applicant：松下電器産業株式会社