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J-GLOBAL ID：200903014722078574

金属酸化物膜蒸着装置

Inventor：
斉藤 秀俊

About 斉藤 秀俊

, 
木下 秀雄

About 木下 秀雄


Applicant, Patent owner：
旭化成工業株式会社

About 旭化成工業株式会社

, 
斎藤 秀俊

About 斎藤 秀俊


Agent (1)： 清水 猛 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998218647
Publication number (International publication number)：2000038671
Application date： Jul. 17, 1998
Publication date： Feb. 08, 2000
Summary：
【要約】【課題】 基材表面に金属酸化物膜を蒸着せしめる装置を提供する。【解決手段】 大気放出後に反応して酸化物を形成する一種あるいは複数の金属化合物を加熱して、必要に応じて媒体ガス存在下で揮発ガス体となし、該揮発ガス体をノズルから噴射して、金属酸化物膜を基材表面に蒸着形成せしめる大気開放型CVD装置、及び、大気放出後に水と反応して酸化物を形成する一種あるいは複数の金属化合物を加熱して、必要に応じて媒体ガス存在下揮発ガス体となし、該揮発ガス体を湿度コントロールしつつノズルから噴射して、金属酸化物膜を基材表面に蒸着形成せしめる大気開放型CVD装置。
Claim (excerpt)：
大気放出後に反応して酸化物を形成する一種あるいは複数の金属化合物を加熱し、揮発ガス体となし、該揮発ガス体をノズルから噴射して、金属酸化物膜を基材表面に蒸着形成せしめることを特徴とする大気開放型CVD装置。
IPC (4)：
C23C 16/40 ,  C03C 17/245 ,  C23C 16/448 ,  C23C 16/455
FI (4)：
C23C 16/40 ,  C03C 17/245 Z ,  C23C 16/44 C ,  C23C 16/44 D
F-Term (46)：
4G059AA01 ,  4G059AB19 ,  4G059AC11 ,  4G059AC18 ,  4G059AC22 ,  4G059AC30 ,  4G059CB01 ,  4G059EA01 ,  4G059EA02 ,  4G059EA03 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4G059EA07 ,  4G059EB01 ,  4K030AA02 ,  4K030AA11 ,  4K030BA02 ,  4K030BA11 ,  4K030BA16 ,  4K030BA18 ,  4K030BA21 ,  4K030BA29 ,  4K030BA42 ,  4K030BA43 ,  4K030BA44 ,  4K030BA46 ,  4K030BA47 ,  4K030BA53 ,  4K030BA54 ,  4K030BA55 ,  4K030BA57 ,  4K030BB02 ,  4K030CA01 ,  4K030CA02 ,  4K030CA05 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07 ,  4K030EA01 ,  4K030EA04 ,  4K030EA05 ,  4K030FA10 ,  4K030FA17 ,  4K030JA06 ,  4K030JA09 ,  4K030KA25 ,  4K030KA41
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • フッ化物ガラス用CVD原料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-099638   Applicant：三菱電機株式会社
  • 特開昭56-041832
  • 特開昭57-104659
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)
  • CVDハンドブック, 1991, 第628-647頁

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