欠陥検査装置における検査レシピ設定方法および欠陥検査方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：小川勝男 , 田中恭助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003183933
Publication number (International publication number)：2005017159
Application date： Jun. 27, 2003
Publication date： Jan. 20, 2005
Summary：

【課題】欠陥検査装置において、検査時の画像取得パラメータや検査パラメータなどの検査レシピの設定は労力が多大であり、時間もかかるため、装置稼働率を低下させる一因ともなっており、これを軽減する必要がある。【解決手段】複数の画像取得条件等を設定し、設定条件毎に検査を実行し、検出した欠陥全てを欠陥自動分類機能を用いて真の欠陥と虚報とに分類することにより、複数条件の中から最も検出に適した条件を自動選別する方式。また、複数検査の結果を重複の無い欠陥ORファイルを作成すれば更に効率向上する。また、同機能を用いて特定の欠陥が最も多く検出できるような条件を選択する事も可能である。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

欠陥検査装置において所定の試料から互いに異なる複数の画像取得条件を変えて順次各画像取得条件毎の画像信号を取得する画像信号取得ステップと、該画像信号取得ステップにより順次取得された各画像取得条件毎の画像信号から各画像取得条件毎の欠陥候補を検出する欠陥検出ステップと、該欠陥検出ステップにより検出された各画像取得条件毎の欠陥候補の前記試料上の位置座標を基に各画像取得条件毎の欠陥候補のORファイルを作成するORファイル作成ステップと、該ORファイル作成ステップにより作成された各画像取得条件毎の欠陥候補のORファイルを基に同一欠陥候補については重複することなくレビューするレビューステップとを有することを特徴とする欠陥検査装置における検査レシピ設定方法。

IPC (3)：

G01N21/956 , H01L21/027 , H01L21/66

FI (3)：

G01N21/956 A , H01L21/66 J , H01L21/30 502V

F-Term (21)：

2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051BA05 , 2G051BA06 , 2G051BA10 , 2G051BB07 , 2G051BB09 , 2G051CA04 , 2G051DA07 , 2G051EA11 , 2G051EA14 , 2G051EA16 , 2G051EC01 , 2G051EC02 , 2G051ED21 , 4M106AA01 , 4M106AA09 , 4M106BA10 , 4M106CA38 , 4M106CA39 , 4M106DB21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

半導体デバイスの製造方法、検査装置における検査条件出し方法、検査装置の選定方法並びに検査装置およびその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-061836 Applicant：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
半導体欠陥分類装置及び半導体欠陥分類方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-000123 Applicant：株式会社東芝
特開平4-106460

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