Pat

J-GLOBAL ID：200903014778485423

オゾン溶解方法と装置

Inventor： 谷津 健司 ,  水野 智夫
Applicant, Patent owner： 石川島播磨重工業株式会社
Agent (1)： 堀田 実 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999146023
Publication number (International publication number)：2000334283
Application date： May. 26, 1999
Publication date： Dec. 05, 2000
Summary：

【要約】【課題】 圧力開放後も過飽和状態を保ちオゾンの脱気を抑制する方法と装置を提供する。【解決手段】 溶媒にオゾンガスを混合して加圧し溶解させた後、細路5に層流状態で通し降圧してオゾン溶解液を得る。

Claim (excerpt)：

溶媒にオゾンガスを混合して加圧し溶解させた後、細路に層流状態で通し降圧してオゾン溶解液を得ることを特徴とするオゾン溶解方法。

IPC (6)：

B01F 1/00 ,  B01F 5/00 ,  B01F 5/06 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/78

FI (6)：

B01F 1/00 A ,  B01F 5/00 D ,  B01F 5/06 ,  C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 550 B ,  C02F 1/78

F-Term (10)：

4D050AA01 ,  4D050AB03 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4G035AA01 ,  4G035AA02 ,  4G035AE19

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• オゾン水生成システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-032772   Applicant：三浦工業株式会社, 株式会社三浦研究所
• 気体溶解装置および気体溶解方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-223179   Applicant：大日本インキ化学工業株式会社
• 特開平3-151096