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J-GLOBAL ID:200903014853606185

フィードバック・コントローラ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 川崎 隆夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998191580
Publication number (International publication number):1999224101
Application date: Jul. 07, 1998
Publication date: Aug. 17, 1999
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 プロセス変数設定値またはその近傍のプロセス変数を維持するために動作する閉ループフィードバック制御システムを提供すること。【解決手段】 このシステム10は設定値に応答してプロセス変数値を調整する設定値制御器20を含む。設定値制御器に付随するセンサ52がプロセス変数を検出し、対応するプロセス変数信号54を出力する。閉ループの設定値制御器とセンサーに接続された制御器はセンサから受信されたプロセス変数信号に応答して設定値制御器の動作を制御するためのPID論理でプログラムを作成される。制御器16はプロセス変数信号54の不均一2点間標本化処理に基づいて設定値制御器を制御する制御信号を発生する。この制御器は設定値制御器利得およびシステムパラメータの変化にかかわらず、円滑な、こぶ無し制御を提供する。
Claim (excerpt):
関連した設定値に応答してプロセス変数の値を調整する設定値制御器と;前記プロセス変数を検出し、変数に対応するプロセス変数信号を出力する、設定値制御器に関連したセンサと;閉ループ内の前記設定値制御器と前記センサに接続され、前記センサから受信されたプロセス変数信号に応答して前記設定値制御器の動作を制御するために、かつ比例、積分、導関数要因を含み前記プロセス変数信号の不均一2点間標本化に基づいて前記設定値制御器を制御する制御信号を発生するためにPID論理でプログラムを作成された制御器と;からなることを特徴とする制御システム。
IPC (8):
G05B 7/02 ,  G05B 11/36 501 ,  G05B 11/36 ,  G05B 11/36 503 ,  G05B 11/42 ,  G05B 13/02 ,  G05B 21/02 ,  H03H 17/02 641
FI (8):
G05B 7/02 G ,  G05B 11/36 501 E ,  G05B 11/36 501 B ,  G05B 11/36 503 A ,  G05B 11/42 A ,  G05B 13/02 S ,  G05B 21/02 Z ,  H03H 17/02 641 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 電動ステージ制御装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-042784   Applicant:オリンパス光学工業株式会社

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