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J-GLOBAL ID：200903014911988794

レーザー励起型X線源

Inventor： 小島 勇夫 ,  岩本 隆
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  株式会社島津製作所
Agent (2)： 竹本 松司 (外2名) ,  竹本 松司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999105642
Publication number (International publication number)：2000298200
Application date： Apr. 13, 1999
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：

【要約】【課題】 レーザー励起型X線源において、プラズマからの微粒子群による汚染あるいは損傷を防止し、ターゲットの消耗を低減する。また、X線の強度変更を容易に行う。【解決手段】 レーザービームの照射によるプラズマによってX線を発生するレーザー励起型X線源において、ターゲット材11を内部に封入する容器2を備え、該容器2はレーザービーム31及びX線41を透過しターゲット材及びプラズマ12の飛散を遮断する透過窓21を有する構成とする。ターゲット材及びプラズマを密封容器内とすることによって、レーザー励起型X線源が備えるポート類やX線光学系が、プラズマから放出される微粒子群によって汚染されたり損傷されることを防止し、ターゲット材の消耗を低減する。ターゲットの厚みを変更することによって、ターゲット材及びプラズマを密封する容器の姿勢を変更する姿勢変更機構6を備えることによって、X線の強度変更を容易に行う。

Claim (excerpt)：

レーザービームの照射によるプラズマによってX線を発生するレーザー励起型X線源において、ターゲット材を内部に封入する容器を備え、前記容器は、レーザービーム及びX線を透過しターゲット材及びプラズマの飛散を遮断する透過窓を有する、レーザー励起型X線源。

IPC (4)：

G21K 5/08 ,  H01L 21/027 ,  H05G 2/00 ,  H05H 1/24

FI (4)：

G21K 5/08 X ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/30 531 S ,  H05G 1/00 K

F-Term (13)：

4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AA17 ,  4C092AB19 ,  4C092AC08 ,  4C092BD01 ,  4C092BD07 ,  4C092BD12 ,  4C092CD10 ,  4C092CE02 ,  4C092CE04 ,  4C092EE12 ,  5F046GC03