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J-GLOBAL ID：200903014938232721

ガス濃度調節剤及び低酸素濃度環境の調節方法

Inventor： 荒木 久哉 ,  權 雅憲 ,  神谷 智雄 ,  播間 良彦
Applicant, Patent owner： 三菱瓦斯化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996070033
Publication number (International publication number)：1997252766
Application date： Mar. 26, 1996
Publication date： Sep. 30, 1997
Summary：

【要約】【課題】 本発明の目的は、従来方法の問題点を解決し、培養細胞の低酸素障害試験等のための虚血性環境に代表される低酸素濃度環境を簡便に作ることができる、取扱の簡単な培養環境調節剤並びにこれを用いた低酸素濃度環境の調節方法を提供することにある。【解決手段】 培養細胞を密閉性容器内の低酸素・虚血性の培養環境下で培養するに際し、密閉性容器内にアスコルビン酸系炭酸ガス発生型酸素吸収組成物と炭酸ガス吸収剤と水とからなるガス濃度調節剤を同封することにより、培養雰囲気の酸素濃度を1%以下かつ炭酸ガス濃度を3〜7%に調節する。

Claim (excerpt)：

アスコルビン酸類、金属塩、多孔質担体、アルカリ土類金属水酸化物および水からなる組成物であり、該組成物を密封系内に収納することにより系内の酸素を吸収して酸素濃度を1時間以内に1%以下としかつ炭酸ガス濃度を3〜7%に調節することを特徴とするガス濃度調節剤。

IPC (2)：

C12N 5/06 ,  C12Q 1/02

FI (2)：

C12N 5/00 E ,  C12Q 1/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 脱酸素剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-185322   Applicant：凸版印刷株式会社
• 脱酸素剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-185321   Applicant：凸版印刷株式会社
• 特開平4-287684
  
• 特開昭58-056679